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《文 献 检 索》 课 程 论 文 偏压对大尺寸活性屏离子渗氮的影响 班级： 学号： 姓名： 11材料成型2班 1136230034 杨宁 完成时间：2014年11月2日偏压对大尺寸活性屏离子渗氮的影响 杨宁 （台州学院 工程学院，浙江台州318000）活性屏离子渗氮；直流离子渗氮；偏压；渗氮层；辉光放电 中图分类号：TG156 The Influence of Bias and In-Situ Cleaning on Through Cage (TC)or Active Screen Plasma Nitrided (ASPN) Steels Yang ning (School of Mechanics, Electronics and Architecture Engineering, Taizhou University, Taizhou 318000) Abstract: Through the study of the active screen of 40 c steel ion nitriding, were studied during the process of active screen ion nitriding process workpiece by the influence of the bias of nitriding layer. The test results show that without bias or bias under the condition of low, close to the active screen distance of the workpiece, the surface has a certain thickness of nitriding layer formation, hardness increased; Active screen far away and distance of the workpiece, the formation of the surface almost no nitrided case, but when increasing the bias to 400 ~ 450 V, the surface produce weak glow discharge, far away from the active screen surface nitriding layer formation. By controlling the bias value, can make the surface thickness of nitriding layer formation, improve the hardness. At the same time also can avoid the dc ion nitriding process to produce the problem such as bowl, edge effect Key words: Of active screen ion nitriding; Dc ion nitriding; Bias；The nitriding layer；Glow discharge 前言 “离子渗氮技术是一种常用的化学热处理方法，具有渗氮速度快，热效率高等优点，且辉光放电可均匀覆盖于工件表面，适用于形状复杂的工件表面处理u-2J。这项技术已在工业生产中得到广泛应用，它所带来的经济效益与El俱增，但是由于受气体放电特性的影响，传统的直流离子渗氮(D(刖)技术一直存在一些难以解决的问题，如：工件打、温度测量困难弧、电场效应、空心阴极效应和电场效应、温度测量和电源保护等问题电源过流保护等问题，这些问题也制约了该技术在实际生产中的大规模推广。表1 ASPN工艺参数 经过离子渗氮后的试样分别用HVS-1000显微硬度计测得试样表面硬度，绘出渗氮距离与偏压对渗氮层表面硬度的影响；对放置在活性屏中心的试样，经不同的偏压进行离子渗氮处理后对其渗层横断面的显微硬度进行测量，绘出硬度与偏压的关系曲线。 2实验结果及分析讨论 2.1工件偏压与偏流的关系 图2(a)是在活性屏与炉壁之间不加主电压的条件(也就是在DCPN条件)下不同温度时工件偏 与偏流的关系。由图2(a)可以看出，在25℃且不加主电压时，随着偏压的升高偏流逐渐增大，在偏压升高到420V前，电流增加缓慢，电流大小几乎为零；当偏压超过420 V时，偏压稍微降低，偏流突然增大；当继续升高偏压，偏流则迅速