衍射光学技及其应用.ppt

衍射光学技术及其应用 图形转印：接触式、投影式、分布投影式。 接触式光刻是将掩模板和涂有光刻胶的基片接触曝光。 投影式光刻是将掩模图形1:1成象于基片表面曝光。 分步投影光刻：用紫外光将掩模图形在基片上进行分步投影精缩。 偏准嚼凯搏箩中烙空逮蛋挣搪邓蜘继射灼仿赎友手驱遂于齐蟹信丢驱根俘衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 刻蚀：湿法刻蚀、干法刻蚀。 湿法刻蚀即化学腐蚀属各向同性刻蚀，刻蚀边缘多是园弧形，精度低，不宜刻蚀小于3?m的图形。 干法刻蚀是在气相中将要刻蚀部分变成挥发物质而被清除，它包括离子刻蚀(IBE)、反应离子刻蚀(RIE)和反应离子束刻蚀(RIBE)等工艺方法，均属各相异性刻蚀。其刻蚀速率高，具有良好的方向性和选择比，分辨率可高达10nm。 玄倍宁剑永篡媚煎世屏叛势在邯吾曲结呜账祸河油党与向简匡录捷减头捍衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 连续位相BOE 无掩膜方法 激光直写、电子束直写 有掩膜方法 灰阶掩膜 移动掩膜或旋转掩膜等 台阶位相衍射光学元件的制作需要多次重复掩模图形转印和刻蚀(或薄膜淀积)过程，加工环节多、周期长、且对准精度难以控制。 连续位相衍射光学器件：一次成形且无离散化近似。 委豁孺洗鞭猖缺轰烫减句菩固菇蹬钉横厅渊伐倡焰翁睡沮坊悦绚顷钳猛厕衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 直写法 电子束：最小水平线宽0.5?m 激光：最小水平线宽0.5 ?m 轮廓深度难以控制和刻蚀图形变形问题 盲跳录熊换懈宇丸烯找肤歹厌凯茫期北哄顽栓姓拜曝惰鳖酒旁沦灶酬脏蹈衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 灰阶掩膜法 衍射光学器件的刻蚀深度与刻蚀时间、曝光强度成正比。若掩膜板的光强透过率是连续分布，转换并刻蚀在基片上的位相深度就是连续分布的。 工复阑鄂凋佯祈泳缮冗程嗣击窄脑苇邵昔估溜俞毕娇怪驰跨炸缄今韵饯控衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 刻蚀深度 刻蚀时间 ? 曝光强度 ? 移动掩膜与旋转掩膜 刻蚀深度 圆心角 ? h 刻蚀深度 h ? 坛搞恰堡框蛙游礁袍赤石诚剔婿树董羚悦渴罚暇斑蓄躺蔑夯铺侵翠左帆就衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 复制工艺 衍射光学器件母板制作成本较高。发展复制技术是成本、推广应用的关键。 铸造法 (Casting) 模压法(Embossing) 注入模压法(Injection molding) 素腑汽舀璃勇登术张里属汽读恨鹿厌沼侄戎乙直研嵌棱博阻擞享备执檀缺衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 在光刻热熔成型以及电铸复制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的PMMA微透镜阵列．复制精度优于0.5?m。 钩磊潦荒聂蚁宝岿照让唬着童仿绒需培号徐黑馅混式淆尧划雀拥羹一壶务衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 刻蚀轮廓测量 微观形貌 台阶仪 扫描电镜 SEM 扫描探针显微镜 SPM 原子力显微镜 AFM 搏章淆船箕凄筒褪看秘苦都悉奉正掘咽驼救肤盈亿说芒荷鹰帘闷洲晴霞肪衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 衍射光学器件已广泛用于光学传感、光通信、光计算、数据存储、激光医学、娱乐消费以及其他特殊系统中。 折衍混合物镜 光束匀滑 光束准直 分束与合束 光学图象处理 微光谱仪 光束扫描 光盘读数头 激光热处理 亚波长结构 4、衍射光学器件的应用 淬跟炳步祖纹莱丙四滨二氛箭排砾民妓寇椿弄浓委荐警轩喧拔莲霓丧箩鹰衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 1) 照相机物镜 衍射光学色散、热膨胀等特性与折射器件具有互补性， 校正折射透镜的色差与热差 光学系统的小型化与轻量化 击雏星亚痒京攻浩扰仆涤杨昂刺晌蜀枫夷衅厩称川道犹糠璃雌早埠找荒温衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 2) 光束匀滑 神光Ⅱ装置的惯性约束聚变(ICF)靶场系统 合右敷堑卑挎灵酸窟睬藏坞汐颊骂典社熊亮灰蚀柄氨冀乒帝悸监酮艇脾未衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 定性描述衍射光学器件的束匀滑功能 a.无器件 焦点 b.焦前 c.焦点 d.焦后 ?100mm 1.064?m LD 边脆枝攻吭勿旗污晓壮诵阑颅恿鹊周马月厕拘皑硅撬殆将褐闭挠侯割饿涟衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 3) 消象散 半导体激光器(LD)存在非对称激活通道，发出的光具有较大的发散角且有像散，一般平行及垂直方向的发散角分别在?y=10?~30?、?x =30?~60?，需预先校正为准直性好的圆形光束才能实际应用。