椭圆偏光仪.pptVIP

第五章 橢圓偏光儀（Ellipsometry） 橢圓偏光儀的發展 1808年E.L. Malus發現光反射時的偏振特性 1889年P.K.L. Drude利用兩道偏振方向互相垂直的光來量測薄膜的厚度 1945年，A. Rothen將此種利用不同偏振光來量測樣品厚度及其折射率的方法統稱為橢圓偏光術(ellipsometry) 橢圓偏光儀的應用 在半導體、物理、化學、材料、生物、機械、冶金和生物醫學工程中廣泛應用 半導體、光學薄膜、晶圓、金屬、介電薄膜、玻璃及有機薄膜等，另外也可應用於介電、非晶半導體、聚合物薄膜及薄膜生長過程的即時監控等量測 可以用來測量薄膜的偏振特性及色散特性，特別是可研究薄膜生長的初始階段，並用以計算分子層的厚度及密度等。在其量測的精確度及高速且非破壞性量測等特性下，無論在產業應用上或基礎學術研究上都有非常廣的應用層面 橢圓偏光儀原理 橢圓偏光術是一種非接觸式、非破壞性、以光學技術量測薄膜表面特性的方法 量測原理：運用光在兩層薄膜間的介面或薄膜中發生的現象及其特性的一種光學方法 利用偏振光束在界面反射或穿透時出現的偏振轉換，得到Ψ與 Δ，稱之為橢圓參數 由所建構的物理模型，計算薄膜的折射係數n、吸收係數k、膜厚t 橢圓偏光儀無法直接測量樣品的物理參數，必須藉由一模型來描述樣品的物理性質，以數值分析求得實際樣品的物理參數 因此數值分析方法亦決定橢圓偏光儀