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技术创新评价表
项目名称 单片后道新设备工艺参数固化 项目等级 承接单位 11.24 技术创新总结 HighMax SHM-200贴膜机工艺
使用UV膜进行贴膜,由于使用6〞工作台, 在对4英寸晶圆贴膜时。UV膜粘附在工作台上,造成贴膜完成后取件困难,甚至由于UV膜粘连在工作台上使得在取件时晶圆破裂。故需要在工作台上覆盖UV离型膜,防止UV膜粘附在工作台面。
DAD322切割机砷化镓切割工艺
使用4英寸砷化镓晶圆对切割机进行试运行。划片道宽度160um,晶圆
厚度100um,UV膜厚度100um。主轴转速30000 r/min,刀片高度75um,进刀速度2mm/s,试验结果如下:
刀片型号
ZH05-SD3000-N1-50 BB
Y方向边缘宽度
Y方向芯片尺寸
X方向芯片边缘宽度
X方向芯片尺寸
X方向最大划痕+崩边宽度
Y方向最大划痕+崩边宽度
60
922
60
920
58
42
59
921
64
921
57
42
50
923
60
923
66
42
43
922
60
924
73
42
52
921
56
921
60
45
72
921
60
920
54
38
60
919
62
922
60
38
58
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54
920
66
48
60
919
60
919
55
38
60
919
59
920
53
37
最大值
72
923
64
924
73
48
平均值
57.4
920.7
59.5
921
60.2
41.2
最小值
43
919
54
919
53
37
误差范围
29
4
10
5
20
11
芯片正面:
技术创新总结
芯片背面:
芯片侧边:
使用此种刀片,刀痕宽度为41um左右,但崩边较严重,长行程运行后发现有数处裂纹,但芯片尺寸误差范围在5um内,即芯片尺寸符合要求。X方向与Y方向崩边情况不同为晶圆本身晶向所至,故X方向崩边会大于Y方向崩边。
技术创新总结 刀片型号
NBC-ZH 226J-SE 27HABB
Y方向边缘宽度
Y方向芯片尺寸
X方向芯片边缘宽度
X方向芯片尺寸
X方向最大划痕+崩边宽度
Y方向最大划痕+崩边宽度
59
921
66
923
36
32
58
922
65
924
40
31
54
921
65
923
43
31
56
922
64
924
40
31
60
921
68
924
39
32
59
920
66
924
38
33
57
921
65
924
41
33
55
922
64
924
39
34
58
921
65
924
40
34
58
921
65
925
43
31
最大值
60
922
68
925
43
34
平均值
57.4
921.2
65.3
923.9
39.9
32.2
最小值
54
920
64
923
36
31
误差范围
6
2
4
2
7
3
芯片正面:
芯片背面:
技术创新总结 芯片侧边:
使用此种刀片,刀痕宽度为32um左右,但崩边大为改善,长行程运行后没有发现裂纹和背崩的情况。芯片尺寸误差范围在2um内,即芯片尺寸符合要求。X方向与Y方向崩边情况不同为晶圆本身晶向所至,故X方向崩边会大于Y方向崩边。较前一种刀片崩边减小了70%。
故今后采取NBC-ZH 226J-SE 27HABB刀片,主轴转速30000 r/min,刀片高度75um,进刀速度2mm/s,即可对砷化镓晶圆进行切割。
对于硅片,则采取100mm/s的进刀速度。石英基片,采取5mm/s的进刀速度均可达到较好的切割效果。
DCS1440晶圆清洗机
我们对切割后的4英寸晶圆进行了清洗,喷水时间设定为喷淋30s,吹干30s,工作盘转速1200r/min。对清洗后的晶圆在100倍显微镜下观察,可以达到验收要求。
评审结论
评审组长:
申请人 许庆宪 审核 批准
JCB
staff and workers representativesThe representatives of the staff and workers from the unit or away from retirement, on behalf of automatically disqualified, on behalf of the deleg
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