氧化还原法基本原理.ppt

第三节 氧化还原法 主要内容 一、氧化还原法基本原理 二、氧化剂与还原剂 三、氧化法 四、还原法 五、光氧化法 一、氧化还原法基本原理 （一）概述 （二）氧化还原电位 1.氧化还原电位的含义 氧化还原电位是衡量化合物在一定条件下氧化还原能力的指标，它表示某一物质由某种氧化态转变为某种还原态，或由某种还原态转化为某种氧化态的难易程度。 2.能斯特方程 二、氧化剂与还原剂 （一）氧化剂 水处理中常用的氧化剂有氧、氯、臭氧、二氧化氯、双氧水（H2O2）和高锰酸钾等。 （1）氧（O2） 氧在酸性和碱性溶液中的标准氧化还原电位分别为1.299V和0.401V。可利用空气中的氧或纯氧（氧浓度为90%），用于水处理的方法有氧化脱硫、除铁、除锰、催化氧化和湿式氧化等。 （2）氯（Cl2） 氯作为消毒剂已广泛用于给水处理中，其标准氧化还原电位达1.359V，也常作为化学氧化剂用于废水处理中。 （3）臭氧（O3） 臭氧是一种极强的氧化剂，其标准氧化还原电位达2.07V。其氧化能力强，反应速度快，可氧化生物难降解的有机物，有良好的脱色、除臭、除味效果，但设备投资大，运行电费高。一般用于水的深度处理与消毒。 三、废水处理常用氧化法 1.氯氧化法： 常用药剂有液氯、氯气、漂白粉、漂粉精、二氧化氯、次氯酸钠等 2.O3氧化法： 臭氧发生器 3.H2O2氧化法： 多采用Fenton试剂法 （一）氯氧化法基本原理 氯气与水接触发生歧化反应，生成次氯酸和盐酸。 Cl2 ＋ H2O HOCl ＋ H+ ＋ Cl- 次氯酸是弱酸，能在水中发生离解。 HOCl H+ ＋ OCl- 其中起氧化作用的是HOCl中的氯（Cl）和OCl-中的Cl，其中前者的氧化能力强。其标准电极电位如下： 在酸性溶液中， HOCl ＋ H+ ＋ 2e- Cl- ＋ H2O E0 =1.49V 在碱性溶液中， OCl- ＋H2O ＋2e- Cl- ＋2OH- E0=0.9V 中性溶液中， E0 =1.2V 由此可见，控制不同的pH值条件，氯氧化剂的氧化能力不同。pH﹤6时，次氯酸几乎全为分子态；pH在6～9范围内，两种形态所占比率较大；pH﹥9.5时，次氯酸几乎全部电离为OCl-，较低的pH值氧化能力强。 （二）氯氧化法处理工艺及设备 1.处理方法 间歇式或连续式 2.处理设备 a 投氯装置 氯瓶和加氯机 、调制和投加设备 、ClO2发生器等 b接触反应池 反应时间一般为0.5—1.5h。 二氧化氯产生方法 1.化学法 工艺原理： 2NaClO3＋4HCl＝ 2ClO2↑ ＋Cl2↑＋2NaCl＋2H2O； 5NaC1O2+4HC1=4C1O2+5NaC1+2H2O 2.? 电解法  （二）O3氧化法基本原理 1.臭氧性质 臭氧在常温下是一种具有鱼腥味的淡紫色气体，沸点为-112.5℃，密度为2.144Kg/m3，具有一定的毒性。臭氧极不稳定，常温下易自行分解成为氧气。其在水中的溶解度要比纯氧高十倍，比空气高25倍，是一种强氧化剂，其氧化还原电位与pH值有关。在酸性溶液中E0=2.07V，在碱性溶液中E0=1.24V，其pH值适用范围为5.6～9.8。 2.臭氧氧化法原理 臭氧氧化的主要原理是因为分子中的氧原子具有强烈的亲电子性或亲质子性，而且其分解产生的新生态氧也具有很高的氧化能力。其对有机物的氧化主要主要包括三种途径： （1）夺取氢原子并使链烃羰基化，生成醛、酮、醇或酸，芳香化合物先被氧化为酚，再氧化为醇。 （2）打开双键，发生加成反应。 （3)氧原子进入芳环发生取代反应。 3.臭氧氧化法主要工艺设备 1)臭氧氧化法主要工艺设备 臭氧发生器和接触氧化反应设备 2)臭氧制备的方法 化学法、电解法、紫外光法、辐射法、 无声放电法等 3) 尾气处理方法 燃烧分解、活性炭吸附、催化分解和化学处理等。 （三）过氧化氢氧化 过氧化氢氧化法多与其它方法联用，特别是与含有Fe2+的废水构成Fenton试剂，大大提高了处理效果。 1.反应机理 在亚铁离子催化下，双氧水能产生两种活泼的自由基，从而引发和传播自由基链反应，加快有机物和还原性物质的氧化 。 2.影响因素 1) pH：3~6 2