waters-2008MS_4_Qp_HW_Oper综述.ppt

Waters ZMD Detector Hardware and Operating Principles 32098 四极杆质谱 硬件技术及操作原理 本章概要 真空系统 Z－喷雾离子源 源内碰撞诱导解离(in-souce CID)及MS/MS 质量分析器 检测器 质谱真空系统 质谱仪之所以在低压下工作是为了 ... 尽量减少离子-分子之间的碰撞 (即,得到最大平均自由程) 碰撞可能导致离子偏离所期望的轨迹(由离子源到四极杆检测器) 碰撞可能导致产生意外的离子或带来副反应 1 atm ~ 10 -6 m ; 10-4 torr ~ 0.5 m 防止在高电压 (用于某些离子聚焦)下生成电弧 减少污染/化学噪音 真空度示意图 前级真空泵 前级泵的外观 涡轮分子泵 Z－喷雾离子源: 两级正交取样 电喷雾毛细管 将HPLC 洗脱液导入MS离子源 75 ?m 内径不锈钢管 高电压给液滴提供过量电荷 对于正离子方式通常在 2-4 kV 之间优化 对于负离子方式通常在 2-3 kV 之间优化 APCI 电晕(冠状)放电针 高电压促使溶剂分子发生化学电离 对于正离子方式通常在 3-5 kV 之间优化 对于负离子方式通常在 2-4 kV 之间优化 取样锥孔 将离子抽取至一级真空区 调节锥孔电压以获取最大灵敏度 通常在 25-70V 之间优化锥孔电压 低分子量化