第二章 材料现代分析测试方法-光电子能谱与俄歇电子能谱.ppt

4.化学态分析 1．材料微观结构和成分分析可以分为哪几个层次？ 2．物相分析主要采用什么方法？ 3．XPS能用来干什么? 4．为什么XPS能用来分析元素化学环境？ 5．什么是俄歇效应？ 2.电子能量分析器 电子能量分析器是电子能谱仪的中心部分。 由于用电子束照射固体时，将产生大量的二次电子和非弹性背散射电子，它们在俄歇电子能谱能量范围内构成很高的背景强度，所以俄歇电子的信噪比极低，检测相当困难，需要某些特殊的能量分析器和数据处理方法（如俄歇谱的微分等）来加以解决。 电子能量分析器的种类很多，主要有阻挡场分析器（RFA）及圆筒镜分析器（CMA）两种。与阻挡场分析器相比，筒镜分析器具有点传输率很高，有很好的信噪比特性，灵敏度比前者高出2-3个数量级等优点。 图 圆筒镜分析器示意图 通道倍增器 初期的俄歇谱仪只能做定点的成分分析。 70年代中，把细聚焦扫描入射电子束与俄歇能谱仪结合构成扫描俄歇微探针（SAM），可实现样品成分的点、线、面分析和深度剖面分析。 由于配备有二次电子和吸收电子检测器及能谱探头，使这种仪器兼有扫描电镜和电子探针的功能。 3.主要性能指标 俄歇能谱仪的主要性能指标有能量分辨率、信噪比和检测极限。能量分辨率主要由其能量分析器决定。 信噪比的理论估计值可达104。 检测极限典型值为10000ppm，即可检测极限为0.1-1%，相当于体浓度为5?l018-5?l019个原子/cm3，面浓度为5?l012-5?l013个原子/cm2。检测极限与入射束流、分析器效率、检测线路等许多因素有关。 （二）样品制备 俄歇电子能谱仪对分析样品有特定的要求，在通常情况下只能分析固体导电样品。 经过特殊处理，绝缘体固体也可以进行分析。粉体样品经过特殊制样处理后也可以进行一定的分析。 待分析的样品一般都需要经过一定的预处理，主要包括样品大小，挥发性样品的处理，表面污染样品及带有微弱磁性的样品等的处理。 1．样品大小 对于块状样品和薄膜样品，其长宽最好小于l0 mm，高度小于5 mm。 2．粉末样品 对于粉体样品常用的制样方法有： 1）用导电胶带直接把粉体固定在样品台上； 2）把粉体样品压成薄片，然后再固定在样品台上。 3）把粉体样品或小颗粒样品直接压到金属钢或锡的基材表面。 3．含有挥发性物质的样品 对于含有挥发性物质的样品，必须清除掉挥发性物质。一般可以通过对样品进行加热或用溶剂清洗等方法。如含有油性物质的样品，一般依次用正己烷、丙酮和乙醇超声清洗，干燥后，才可以进人真空系统。 4．表面有污染的样品 对于表面有油等有机物污染的样品，必须用油溶性溶剂如环己烷、丙酮等清洗油污，最后用乙醇清洗掉有机溶剂，为了保证表面不被氧化，一般采用自然干燥。 5．带有微弱磁性的样品 绝对禁止带有强磁性的样品进入分析室。对于具有弱磁性的样品，一般可以通过退磁的方法去掉样品的微弱磁性，然后就可以像正常样品一样分析。 6．离子束溅射技术 为了清洁被污染的固体表面和进行离子束剥离深度分析，常常利用离子束对样品表面进行溅射剥离。利用离子束可定量控制地剥离一定厚度的表面层，然后再用俄歇电子能谱分析表面成分，这样就可以获得元素成分沿深度方向的分布图。 7．样品荷电问题 样品表面荷电相当于给表面自由的俄歇电子增加了一定的额外电压，使测得的俄歇电子的动能比正常的要高。有些导电性不好的样品，经常因为荷电严重而不能获得俄歇谱。 但由于高能电子的穿透能力以及样品表面二次电子的发射作用，对于一般在100 nm厚度以下的绝缘体薄膜，如果基体材料能导电的话，其荷电效应几乎可以自身消除。对于绝缘体样品，可以通过在分析点（面积越小越好，一般应小于l mm）周围镀金的方法来解决荷电问题。此外，还有用带小窗口的Al、Sn、Cu箔等包覆样品等方法。 8．俄歇电子能谱采样深度 俄歇电子能谱的采样深度与出射的俄歇电子的能量及材料的性质有关。一般定义俄歇电子能谱的采样深度为俄歇电子平均自由程的3倍。 根据俄歇电子的平均自由程的数据可以估计出各种材料的采样深度。一般对于金属为0.5-2 nm，对于无机物为1-3 nm，对于有机物为1-3 nm。从总体上来看，俄歇电子能谱的采样深度比XP