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动画演示 N沟道耗尽型MOS场效应管 动画演示 1.8.2 N沟道增强型MOS场效应管 N沟道增强型MOS场效应管结构示意图 P沟道增强型 N沟道增强型 1.8.2 N沟道增强型MOS场效应管 N沟道增强型场效应管不存在原始导电沟道。只是当加上足够大的正向vGS后,才会形成导电沟道,连通源区和漏区,这时若加上正向vDS,就会产生漏极电流iD。开始形成导电沟道的vGS,记作VGS(th),称为开启电压。ID0是vGS=2 VGS(th)时的iD。 vGS>VGS(th)后,vDS较小时,iD随vDS成线性增加,vGS越大,iD随vDS增加的速率越高;当vDS=vGS-VGS(th) 时,导电沟道产生预夹断,进入放大区,iD不再随vDS增加而趋于饱和,iD由vGS控制,iD可近似地表示为 ,(vDS≥vGS-VGS(th),vGS≥VGS(th)) 1.8.2 N沟道增强型MOS场效应管 转移特性曲线 输出特性曲线 某N沟道增强型MOS场效应管特性曲线 增强型MOSFET工作原理 动画演示 动画演示 增强型MOSFET结构 动画演示 1.8.3 结型场效应管(JFET) N沟道结型 P沟道结型 N沟道结型场效应管结构示意图 1.8.3 结型场效应管(JFET) N沟道结型场效应管工作时常接成共源电路。为了控制iD,两个PN结均需接入反偏电压,使vGS<0。 随着反偏电压增大,导电沟道变窄,沟道电阻增大,在vDS一定的情况下,iD减小。 当反偏电压vGS增大到一定值时, 导电沟道被夹断,此时的vGS称为夹断电压,记作VGS(off)。 vGS≤ VGS(off) 1.8.3 结型场效应管(JFET) N沟道结型场效应管转移特性 N沟道结型场效应管输出特性 (vDS>vGS-VGS(off),VGS(off)<vGS≤0) 式中,IDSS为vGS=0时的iD,称为漏极饱和电流。 在放大区内,iD与vGS的关系可近似地表示为 JFET结构 动画演示 JFET原理 动画演示 动画演示 1.8.4 场效应管的主要参数 1. 直流参数 (1)夹断电压VGS(off)和开启电压VGS(th) 当vDS等于某一固定值(例如10V),使iD等于某一微小电流(例如耗尽型MOS场效应管为20μA,增强型MOS场效应管为50μA)时的vGS称为夹断电压VGS(off)(耗尽型和结型)或开启电压VGS(th)(增强型)。 (2) 饱和漏极电流IDSS 放大区,耗尽型和结型场效应管在vGS=0时的漏极电流iD。 (3)直流输入电阻RGS 漏源间短路、栅源间加一定电压时,栅源间的直流电阻。一般MOS场效应管的RGS可达109~1015?。 1.8.4 场效应管的主要参数 2. 交流参数 (2)输出电阻rds vGS为定值时,vDS的微小变量与iD的微小变量之比,即 (3)极间电容Cgs、Cgd 栅源电容 Cgs约为1~3pF;栅漏电容 Cgd约为0.1~1pF。 (1)低频跨导gm vDS为定值时,漏极电流的微小变量与引起这个变化的栅源电压的微小变量之比,即 。 1.8.4 场效应管的主要参数 3. 极限参数 (1)最大漏极电流IDM 正常工作时允许的最大漏极电流。 (2)最大耗散功率PDM 允许耗散在场效应管上的最大功率, PDM=vDSiD,其大小受场效应管最高工作温度的限制。 (3)最大漏源击穿电压V(BR)DS和栅源击穿电压V(BR)GS分别为漏源间和栅源间所能承受的最大电压。 1.8.5 场效应管使用注意事项 (1)制造时大部分产品已将源极与衬底连接在一起,源极与漏极不能互换。 (2)MOS场效应管栅极不能悬空,并且应在栅极和源极之间提供直流通路或加双向稳压管保护。结型场效应管可以用万用表检测,MOS场效应管不能用万用表检测。 (3)若MOS场效应管的衬底引线单独引出,连接时,P衬底应接低电位,N衬底应接高电位,以保证沟道与衬底间的PN结处于反向偏置,从而使衬底与沟道及各电极隔离。 (4)焊接场效应管时,电烙铁必须有外接地线,以屏蔽交流电场。特别是焊接MOS场效应管时,应采用等电位焊接方法或利用烙铁余热焊接。 1.8 课堂提问和讨论 耗尽型MOS场效应管与增强型MOS场效应管结构上有什么区别?使用中各有什么特点? 能否用万用表检测MOS场效应管的引脚和性能?为什么? 应如何保存和焊接MOS场效应管? 试画出N沟道耗尽型、P沟道耗尽型、N沟道增强型、P沟道增强型、N沟道结型、P沟道结型场效应管的电路符号。 本章小结 1. 二极管是非线性器件,具有单向导电性能。为分析计算方便,工程上常将二极管的非线性伏
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