透射电镜-第一部分及答案.ppt

透射电子显微镜 Transmission electron microscope 以电子束为照明光源的显微镜。由于电子束在外部磁场或电场的作用下可以发生弯曲，形成类似于可见光通过玻璃时的折射现象，所以我们就可以利用这一物理效应制造出电子束的“透镜”，从而开发出透射电子显微镜。 TEM用聚焦电子束作照明源，使用对电子束透明的薄膜试样，以透过试样的透射电子束或衍射电子束所形成的图像来分析试样内部的显微组织结构。 TEM常见工作模式有两种，即成像模式和衍射模式： 成像模式下，可得样品形貌、结构等信息。 衍射模式下，可对样品进行物相分析。 TEM的形式 透射电子显微镜（简称透射电镜，TEM），以几种不同的形式出现，如： 高分辨电镜（HRTEM） 透射扫描电镜（STEM） 分析型电镜（AEM）…. 入射电子束（照明束）也有两种主要形式： 平行束：透射电镜成像及衍射 会聚束：扫描透射电镜成像、微分析及微 衍射。 2.7 电磁透镜 能使电子束聚焦的装置称为电子透镜（electron lens） 静电透镜 电子透镜 恒磁透镜 磁透镜 电磁透镜 2.7.1 静电透镜 （1）电子光学折射定律 电子在静电场中受到的洛伦兹力F： 静电透镜 （2）静电透镜 2.7.2 电磁透镜 （1）电子在磁场中的运动 2.4 电子透镜的像差 2.4.1 理想成像的条件： ①场分布严格轴对称 ②满足旁轴条件，即物点离轴很近，电子射线与轴之间夹角很小。 ③电子的初速度相等。 像差的存在影响图像的清晰度和真实性，从而限制了电子显微镜的分辨本领。 2.4 电子透镜的像差 2.4.2 像差分类 1、几何像差 ①球面像差； ②像畸变； ③像散 2、色差 1、几何像差 几何像差-----由透镜磁场几何上的缺陷产生的像差。 ①球面像差(球差) 是透射电镜磁场中近轴区域与远轴区域对电子的 折射能力不同而产生。 2.5 电磁透镜的景深和焦长 1、景深 2.6 成像操作及像衬度 像的分辨率、放大倍数和衬度是电镜的三要素。 衬度：试样不同部位对入射电子作用不同，经成像放大后所显示的强度差异。 像衬度是图像上不同区域明暗程度的差别。 TEM的像衬度与样品材料自身的组织结构、采用的成像方式和研究内容有关。 像衬度 分为振幅衬度和相位衬度。 振幅衬度包括质量厚度衬度和衍射衬度。 多数情况两种衬度对同一幅图像的形成都有贡献，只是其中之一占主导。 2.6.1 明场像和暗场像 TEM图像分为显微像和衍射花样。前者是透射电子成像，后者为散射电子成像。 明场像（BF）：透射电子成像，像清晰。 暗场像（DF）：散射电子成像，像有畸变、分辨率低。 明场像和暗场像 成像电子的选择是通过在物镜的背焦面上插入物镜光阑来实现的。通过调节中间镜的电流可以得到不同放大倍数的明场像和暗场像。 中心暗场像（CDF）：入射电子束对试样倾斜照明，得到的暗场像。像不畸变、分辨率高。 在暗场像中，只有对于成像的衍射束有贡献的那些区域具有较高的亮度，其他区域的亮度则很低。 2.6.2 质厚衬度 非晶体样品衬度的主要来源。 样品不同微区存在原子序数和厚度的差异形的。 来源于电子的非相干散射。 质厚衬度 不同微区Z和t的差异，使进入物镜光阑并聚焦于像平面的散射电子强度有差别，形成像的衬度。 Z较高、样品较厚区域电子散射几率较大，在明场像上显示为较暗区域，在暗场像中，明暗区域刚好相反。 图像上的衬度变化反映了样品相应区域的原子序数和厚度的变化。 质厚衬度 质厚衬度 质厚衬度受物镜光阑孔径和加速电压的影响。 选择大孔径（较多散射电子参与成像），图像亮度增加，散射与非散射区域间的衬度降低。 选择低电压（较多电子散射到光阑孔径外），衬度提高，亮度降低。 2.6.3 衍射衬度 晶体样品衬度的主要来源。 样品中各部分满足衍射条件的程度不同引起。衍射衬度成像就是利用电子衍射效应来产生晶体样品像衬度的方法。 晶体样品的成像过程中，起决定作用的是晶体对电子的衍射。试样内各晶面取向不同，各处衍射束强度差异形成衬度。 衍射衬度 假设样品由颗粒A、B组成，强度I0入射电子照射样品，