《半导体物理器件Chapter4-.pptVIP

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
引言 引言 引言 4.1肖特基势垒 4.1肖特基势垒 4.1肖特基势垒 4.1肖特基势垒 4.1肖特基势垒 4.1肖特基势垒 4.1肖特基势垒 4.2界面态对势垒高度的影响 4.2界面态对势垒高度的影响 4.2界面态对势垒高度的影响 4.2界面态对势垒高度的影响 4.3镜像力对势垒高度的影响 4.3镜像力对势垒高度的影响 4.3镜像力对势垒高度的影响 4.3镜像力对势垒高度的影响 4.3镜像力对势垒高度的影响 4.3镜像力对势垒高度的影响 4.3镜像力对势垒高度的影响 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.4肖特基势垒二极管的电流-电压特性 4.5肖特基势垒二极管的结构 4.6 金属-绝缘体-半导体肖特基二极管 4.6 金属-绝缘体-半导体肖特基二极管 4.7肖特基势垒二极管和P-N结二极管之间的比较 4.7肖特基势垒二极管和P-N结二极管之间的比较 4.7肖特基势垒二极管和P-N结二极管之间的比较 4.8肖特基势垒二极管的应用 4.8肖特基势垒二极管的应用 4.8肖特基势垒二极管的应用 4.8肖特基势垒二极管的应用 4.8肖特基势垒二极管的应用 4.9 欧姆接触:非整流的M-S结 4.9 欧姆接触:非整流的M-S结 4.9 欧姆接触:非整流的M-S结 4.9 欧姆接触:非整流的M-S结 4.9 欧姆接触:非整流的M-S结 二、电流-电压特性(理查森-杜师曼(Richardson-dushman)方程) 图4.7 和 肖特基二极管正向电流密度与电压的对应关系 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 二、电流-电压特性(理查森-杜师曼(Richardson-dushman)方程) 使正向I-V曲线延伸至 ,可以求出参数 ,可以用它和(4-28)式一起来求出势垒高度。理想化因子对于Si二极管得到 ,GaAs二极管 。可见(4-27)式较好地适用于Si、Ge和GaAs等常用半导体材料作成的肖特基势垒。 以上分析说明,肖特基势垒电流基本上是由多子传导的,是一种多子器件。值得指出的是,根据式(4-28),反向电流应为常数,这与实验数据出现偏差。其原因之一是4.3 节中所指出的镜像力作用。把 换成 ,则饱和电流改为 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 三、少数载流子电流 空穴从金属注入到半导体中形成电流。这个电流实际上是半导体价带顶附近的电子流向金属费米能级以下的空状态而形成的。 (4-34) (4-35) 其中 在像硅这样的共价键半导体中 要比 小的多,结果是热离子发射电流通常远远大于少数载流子电流 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 例:一个肖特基势垒二极管, ,计算势垒高度和耗尽层宽度。比较多数载流子电流和少数载流子电流,假设 解: 由图4-7求得 。 由方程(4-28) 于是 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 例:一个肖特基势垒二极管, ,计算势垒高度和耗尽层宽度。比较多数载流子电流和少数载流子电流,假设 解: 时,耗尽层宽度为 设 ,则 因此: Evalu

文档评论(0)

maxianhui + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档