薄膜物理与技术-5薄膜的形成与生长精选.ppt

薄膜物理与技术-5薄膜的形成与生长精选

5.3 生长过程 两个圆形核结合时间小于0.1s,并且结合后增大了高度,减少了在基片所占的总面积。结合时类液体特性导致新出现的基片面积上会发生二次成核,结合后的复合岛若有足够时间,可形成晶体形状,多为六角形。 ② 小岛阶段 小岛阶段 小岛阶段过程:课本P152 5.3 生长过程 圆形的岛在进一步结合处,才继续发生大的变形→岛被拉长,从而连接成网状结构的薄膜,在这种结构中遍布不规则的窄长沟道,其宽度约为5-20nm,沟道内发生三次成核,其结合效应是消除表面曲率区,以使生成的总表面能为最小。 ③ 网络阶段 网络阶段过程: 课本P152 5.3 生长过程 小岛结合,岛的取向会发生显著的变化,并有些再结晶的现象。沟道内二次或三次成核并结合,以及网状结构生长→连续薄膜。 ④ 连续薄膜 连续薄膜阶段过程: 课本P152 连续膜阶段 5.4 沉积参数对薄膜生长影响 沉积参数对薄膜生长的影响主要体现在: 沉积速率: 一般来说,沉积速率影响膜层中晶粒的大小与晶粒分布的均匀度以及缺陷等。 低速率:金属原子在基片上迁移时间长,容易到达吸附点位,或被吸附点位置上的小岛捕获而形成粗大的晶粒,使得薄膜的结构粗糙,膜不致密。后续原子不能及时达到,致使暴露时间长,易引入杂质,以及产生缺陷。因此,沉积速率高一些好。 高沉积速率:薄膜晶粒细小,结构致密,但由于同时凝结成的核很多,在能量上核处于能量比较高的状态,所

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