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精密製造學離子束加工 老師：林黎柏 學生：高培鈞 學號：離子束加工裝置 離子束加工裝置︰由離子源系統、真空系統、電源系統、離子束萃取和控制系統、離子束中性化的燈絲組成。 離子槍控制系統 光學監控 此為一光學監控裝置 可在我們利用離子束濺鍍系統鍍膜同時量測膜厚和光強度的關係，並且和我們模擬的結果作比較。 真空系統 製程時，真空室壁、 靶支架及離子槍壁皆以去離子水加以冷卻；鍍膜系統的真空度則以冷凍幫浦來維持，可防止油氣汙染。 離子束加工原理 離子源：將惰性氣體氬(Ar)、氪(Kr)和氙(Xe)注入真空室內，經放電等方法使惰性氣體被電離成等離子體，並在強電場作用下將正離子從離子源出口孔引出而成離子束。等離子體是由數量相等的正離子和負梨子所組成的混合體，程中性，在物理上除了固態、液態和氣態外的第四態。 離子轟擊模型 一次濺射：由離子直接碰撞工件表層中的原(分)子，使該原(分)子分離工件表面。 二次濺射：由離子碰撞工件表層中的原(分)子，這個原(分)子又去碰撞別的原(分)子，而使後來被碰撞的原(分)子分離工件表面。 回彈濺射：受到離子碰撞的原(分)子，又去碰撞別的原(分)子，但自己卻被反彈工件表面外。 離子轟擊模型 排斥濺射：離子碰撞原(分)子時，自己反彈出工件表面外，成為排斥離子，這種情況無濺射去除作用。 置換濺射：離子撞擊工件時被留於表層材