一次N+光刻操作规范和技巧素材.pptVIP

匀胶速度和匀胶时间 操作规范 硅片自检 TEXT 填好流程 卡数据 交下工序 检查硅片表面是否有针孔，小岛，图形异常，阳极面腐白点，划伤。 是否去胶干净 染色现象 填好流程卡接 片数、下交数、 交接人、日期 做好工艺记 录 将填好的流程卡以及区分好的硅片交车间检验 自检下交的操作规范 操作技巧 匀胶操作技巧 甩胶头安装平整，常清洁 保证胶膜厚度均匀，无残缺，不易飞片。 硅片甩胶前用气枪吹硅片表面。 吹去表面颗粒物，甩胶时无三角缺口。曝光时不易刮坏光刻版，不易出现图形缺陷。如：针孔或白点 操作技巧 曝光操作技巧 常检查清洁光刻版，避免版穿或脏污出现曝光图形缺陷 对版后第一片硅片，要检查硅片和版贴附情况，避免虚影 操作技巧 放入腐蚀液时，轻轻抖动花篮2—3次，从而使之前贴在一起的硅片分开，达到硅片表面充分接触腐蚀液。 腐蚀操作技巧 冬天时，腐蚀液温度偏高些，调高2℃ 夏天时，腐蚀液温度偏低些，调低2℃ 操作技巧 除胶操作技巧 去胶液不要加热太早，开始腐蚀氧化层时开始加热即可 硅片放入时缓慢放入，避免硅片脱落 光刻机日常维护保养的方法 设备相关 设备日常 维护保养 每3个月检查 光源，机构转动 情况，光源气动 阀门情况 300小时后更 换汞灯。每次使用 都要测试光强 使用前要清洁 机台，观察气 源压力。 电流稳定后才 可开始测光强及 光刻作业 光刻机使用注意事