第8章-磁畴研究.pptVIP

  • 161
  • 0
  • 约1.09万字
  • 约 100页
  • 2017-01-07 发布于湖北
  • 举报
附录:F(d/h)函数的讨论 当d/h1时,F(d/h)函数可以展成级数形式, F(d/h)=(d/h)-(2/pi)(d/h)2+(1/4)(d/h)3… 或写成 F(x)=(x)-(2/pi)(x)2+(1/4)(x)3… 有关系式 dF/dx=1-(4/pi)(x)+(3/4)(x)2… 所以,在x=0 (d/h=0)处,dF/dx|x=0=1 综上所述,产生磁泡的条件:(1)材料具有一定的单轴各向异性 。 (3)当薄膜的厚度为h=4l时,产生磁泡的最小泡径为dmin=4l,而相应的外场 (2)外场满足 (三)多晶体的磁畴结构 在多晶中,每一个晶粒都有自己的易磁化方向,在晶粒边界处,由于晶界两侧的晶粒的取向不同,在一般情况下,在晶粒边界上会出现自由磁荷,引起退磁场能增加。因此多晶体中磁畴结构要出现稳定结构,只有相邻晶粒中磁畴取向尽可能使晶界上少出现磁荷,退磁场能才会最小。 如果晶界上存在自由磁荷,退磁场能足够高时,也会在多晶体的晶粒边界上形成一定大小的楔型附加畴。因此,多晶体中的晶粒边界也是产生附加畴的一个发源地。 三、单畴结构的计算 在大块材料中,若不形成多畴,则退磁场能很高,所以大块材料以多畴形式最稳定。多畴的大块材料只有在很强的外磁场作用下,才会磁化至饱和状态,整个材料的磁矩基本上取在一个磁化方向上(外场方向),近似一个单畴。

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档