牺牲层技术 首先在厚525μm的硅片上沉积一层1μm 厚的PSG(磷硅酸盐玻璃)牺牲层(图(a));然后在PSG上刻蚀出窗口(图(b)),再在牺牲层上沉积1μm 厚多晶硅(图(c)),然后对多晶硅进行刻蚀,得到所需要的多晶硅悬臂梁(图(d))。最后去掉牺牲层PSG,由于前面已经在PSG上刻蚀出窗口,多晶硅悬臂梁与硅片在裸露的窗口处连接,从而可得到悬在硅片上面的悬臂梁结构((e)) 五、三维结构(体)微加工工艺 体硅微加工技术常用方法有化学刻蚀和离子刻蚀。 三维结构的微加工可以通过平面工艺结合牺牲层技术实现 可利用键合技术实现 可利用LIGA技术实现 键合技术是指不用胶和黏合剂而将硅片与硅片、硅片与玻璃或其它材料融合到一起,形成很强的键的一种加工方法。 硅片键合往往与表面硅加工、体硅加工相结合,用在MEMS的加工工艺中。通常先进行硅片加工,装配好各个微结构后实施键合工艺,以制造出复杂的三维结构,它适合批量生产。 键合技术主要通过加电、加热或加压的方法,使材料层很好地连接在一起。主要方法有静电键合(即阳极键合)、热键合、金属共熔键合、低温玻璃键合、冷压焊键合等。 常见的硅片键合技术包括金-硅共熔键合、硅-玻璃静电键合、硅-硅直接键合等。 键合技术 LIGA技术是德文光刻(Lithographie)、电铸 (Galvanoformung)和注塑(Abformung)三个德文单词的缩写。
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