CF制程简介-雷清芳.ppt

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何謂Color Filter Color Filter 彩色的LCD需要用到彩色濾光片(Color Filter),經由控制IC的訊號處理,使得從背光源發射的強光,可利用彩色濾光片的處理,表現出彩色的畫面。 彩色濾光片之製作是於玻璃基板上,將紅、綠、藍三原色之有機材料,製作在每一個畫素之內。 正/負型光阻 OC製造流程 MVA 製程 MACRO外觀檢查 BM特性量測 RGB色度量測 RGB特性量測 II RGB 特性量測 I ITO規格量測 RGB-穿透率 Photo Spacer 規格量測 Photo spacer CF不良簡介 白缺陷: 漏光(RBM欠陷、RGB色剝、針孔、圖形刮傷等) 黑缺陷: 異物(RBM殘留、Particle、RGB光阻異物等) Mura缺陷: Mura(直/橫 Mura、黑Gap Mura、ITO色不均等) 白缺陷類-BM欠陷 白缺陷類- RBM額緣針孔 白缺陷類- RBM膜面線刮 白缺陷類- R漏光 白缺陷類- 圓暈形色剝 白缺陷類- R透明異物 黑缺陷類- RBM光阻異物 黑缺陷類- R光阻異物 黑缺陷類- Lip光阻異物 黑缺陷類- 黑色異物 黑缺陷類- 纖維異物 黑缺陷類- 散佈金屬異物 何謂Mura 放射狀Mura 丘Mura Pin Mura 直 Mura 橫 Mura 風刀 Mura I 風刀 Mura II 山水畫 Mura 波浪S型 Mura 震動(短邊) Mura 背面輪痕 光阻殘留 BM光阻異物特徵: 從反射光中較易看出,如果從透射光去看可以看見開口部有異物,形成遮光現象。 反射光 透射光 R光阻異物特徵: 從反射光中較易看出,如果從透射光去看可以看見當站製程衍生出的不明異物,形成黑欠現象。 反射光 透射光 Lip光阻異物特徵: 從反射光中較易看出,當站製程圖形中可以看見當製程異物呈現薄狀、條狀、帶狀異物。 反射光 透射光 黑色異物特徵: 從反射光中較易看出,當站製程出現不明黑色異物,穿透光無法穿透,形成遮光現象。 反射光 透射光 纖維異物特徵: 從反射光中較易看出,圖形成線長條不規則曲線。 反射光 透射光 散佈金屬異物特徵: 從反射光中較易看出,可以看見開口部有多數小碎形異物(經分析多為金屬),利用穿透光無法穿透,形成遮光現象。 反射光 透射光 Mura本來是一個日本字,隨著液晶顯示器在世界各地發揚光大,成為一個全世界都可以通的文字。主要是指顯示器亮度不均勻造成各種痕跡的現象。 放射狀Mura特徵: 綠燈下可見放射狀色層差異,大多為基板在減壓乾燥時由於氣流和溫度的影響引起,以致光阻表面乾燥不均。 丘Mura特徵: 類似蝴蝶翅膀狀的點不均(兩個圓形交接),可能固定或不固定點。一般固定點常發生在HP/CP及EXP平台.清潔時如果無法使用無塵布擦拭掉可以配合使用滑石清潔。 Pin Mura特徵: 為固定點位,可分為Coater Stage Pin VCD Pin HP/CP Stage Pin三種,主要為基板上光阻與pin間的溫差較敏感所致。 直Mura特徵: 依著基板長邊的橫向長條不均,帶寬較粗,Gap多等距,邊緣不明顯略帶暈開,一般為顯影機水洗段流量及壓力不均所致。 橫Mura特徵: 平行並貫穿於AB或CD或EF Panel,不論寬窄及位置,且為獨立之線條,則定義為橫條狀Mura。 風刀Mura特徵: 全面性的斜向條紋,方向與截角方向垂直,但如果經過PS MVA-LINE則會平行方向(與風刀layout有關) ,主要為風刀阻塞壓力異常所致。 風刀Mura特徵: 全面性的斜向條紋,方向與風刀吹出方向平行,大多與風刀流量不足有關。 山水畫Mura特徵: 與古代山水畫相似,多以全面性為主,此為顯影液效能低下有關,多發生在顯影液交換時發生。 波浪狀S型Mura特徵: 多以一條或二條S型(細線)貫穿到底為主,大多與顯影Nozzle堵塞有關,導致顯影不良發生,利用簡易Macro空氣槍清潔後OK。 震動(短邊)Mura特徵: 依著基板短邊的縱向長條密集不均,gap等間距。一般是Coater Slider振動引起。 背面Mura特徵: 於基板背面出現數條平行且帶膠狀物的輪痕,大多與傳動機構之傳動輪受損老化有關。 * CF制程简介 中小二期工程部 雷清芳 簡報大綱 液晶顯示器的基本構成元件 彩色濾光片的結構 CF製程介紹 CF不良简介 1.TFT LCD是由兩片玻璃所組成,上端是CF ,下端是TFT,中間夾著一層液晶,再搭配偏光板、背光板及驅動電路等元件,形成為一顯示器模組。 Glass CF TFT-LCD面板剖面圖 液晶 Glass 偏光片 背光燈管 驅動IC板 TAB IC TFT 偏光片 液晶顯示器的基本構成元件 R G B 彩色濾光片

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