教案等离子表面技术.docVIP

. 第一章 绪论 金属表面厚度为0.5～10nm，成分往往与内部不同，如不锈钢表面Cr含量甚至可高达内部的7倍，另外表面会吸附一些外来原子。 原子排列的周期性不同，在表面出现所谓的原子重构和弛豫现象。 晶体表面存在各种缺陷，主要有：台阶、弯折、空位、凸沿、吸附原子等。 金属有氧化物覆盖层，氧化物有时会呈树枝状生长，因此最为平滑的表面也是不规则的。 真实接触面积要比表观面积小很多。实验室条件下的钢表面，在10kg/cm2负荷下，真实接触面积约为表观面积的0.01％。 摩擦时真实接触面积局部温度可升高好几百度，并且最高温度相当于熔点较低的金属的熔点。曾发现钢在玻璃上滑动时局部温度可高达12000C。当温度升高时，表面扩散过程也随之加剧。固体的表面扩散活化能比本体扩散活化能低，当温度接近固体熔点时，表面区域已局部液化，产生烧结现象。 1、表面改性技术： 抛光，喷丸，滚压，毛化，刻蚀，高频表面淬火，电接触表面淬火，电解液表面淬火，渗碳，渗氮，渗硼，渗硫，渗金属，机械能助渗，双层辉光离子渗金属，铸渗，双金属铸造，氧化，磷化，离子注入等。激光表面淬火，激光表面熔凝，等离子束表面淬火，等离子束多元共渗相变强化，等离子束表面冶金（分为熔覆和熔凝）。 2、表面涂覆层技术： （1）薄膜技术： PVD，CVD，溅射，多弧离子镀，机械镀。 （2）厚膜技术（有机涂装除外）： 搪瓷，涂覆烧结，电镀，电刷镀，化学镀，热浸镀，线熔爆，冷喷涂，热喷涂（火焰喷涂，电弧喷涂，等离子喷涂，爆炸喷涂，超音速喷涂，真空等离子喷涂等），堆焊，喷焊（喷熔或重熔），热轧包覆，爆炸复合，自蔓延烧结，激光熔覆，等离子束表面冶金（熔覆）。 1．1等离子体的分类 物质的状态在一定的温度和压力下可以呈固态、液态、气体和等离子体状态存在，宇宙中，绝大多数物质都是以等离子状态存在的。等离子也称为物质的第四态。 等离子体由分子、原子（处于基态或各种激发态）、电子、正离子和质子所组成。等离子体是电中性的，其中的带电离子由气体本身电离产生。其实把电离的气体作为等离子体只是一种侠义的定义，而并非等离子体的全部。广义等离子体还包括正电荷总数和负电荷总数相等的其他许多带电粒子体系，如金属、半导体、电解质水溶液等都可称为等离子体。一般来说我们讲的等离子体仅限于气体离解及电离生成的等离子体。 等离子体的分类有很多种方法： 1．1．1 产生原因――自然等离子体和实验室等离子体 自然等离子体广泛存在于宇宙中，实验室等离子体诸如日光灯中放电、电弧放电、气体激光、受控核聚变、原子弹爆炸、某些化学反应如燃烧、紫外线或x射线辐照等，它们都是由人工产生的。 1．1．2 按照气体电离程度可划分为：1、完全电离；2、部分电离；3、弱电离 1．1．3 按照等离子体的温度可划分为： 1）高温等离子体 即粒子的温度为105－108K 2）低温等离子体 室温到 3×105 K左右，其中按照重粒子温度水平还可分为 热等离子体核冷等离子体。在材料表面改性技术中，溅射、离子镀、离子注入、等离子化学热处理等工艺应用的是冷等离子体，而等离子喷涂、等离子淬火及多元共渗相变强化、等离子表面冶金等工艺应用的是热等离子体。通常是指压缩电弧等离子束流。 1．1．4 按照粒子的密度来划分： 1）致密等离子体（高压等离子体），粒子的密度n 1015-1018cm-3此时粒子间的碰撞起主要作用。 2）稀薄等离子体（低压等离子体），粒子的密度n 1012-14 cm-3时，粒子间的碰撞基本不起作用，例如辉光放电 1．1．5 实验室等离子体或称人工等离子体也可以按照产生等离子体的方式划分： 1）燃烧等离子体 2）电弧等离子体 3）高频等离子体 4）激波等离子体 5）激光等离子体 6）聚变等离子体 当然，并非任何电离气体都能算作等离子体的，因为只要绝对温度不等于0，任何气体中总是可能有少许原子电离的。因此，准确的说，只有当带电粒子密度达到其建立的空间电荷足以限制其自身运动时，带电粒子才会对体系性质产生显著影响，这样密度的电离气体才转变成等离子体。此外，等离子体的存在还受其特征的空间核时间的限制。 1．2 人工产生等离子体的方法 1．2．1 气体放电法 我们一般把在电场作用下气体击穿而导电的物理现象称之为气体放电，由此产生的电离气体叫做气体放电等离子体。 常用电场类型 一般按照所加电场的频率不同，气体放电可分为直流放电、低频放电、高频放电、微波放电等 就等离子体化学领域而言，直流[Dc)放电因其简单易行，特别是对工业装置来说可以施加很大的功率至今仍被采用．低频放电的频率范围一般为1—100kHz，在实际工作中用得不多．目前，在实验装置中和工艺设备中