数字散斑干涉技术在分析金属材料腐蚀过程的可能性和局限性外文文献翻译..docVIP

毕业论文 Possibilities and limitations of digital speckle pattern interferometry in the analysis of corrosion processes in metallic materials 数字散斑干涉技术在分析金属材料腐蚀过程的可能性和局限性 学生姓名： 学号： 学 院： 信息与通信工程学院 专 业： 光电信息工程 指导教师： 王小燕 2014年 6月 数字散斑干涉技术在分析金属材料腐蚀过程的可能性和局限性 摘要 数字散斑干涉技术(DSPI)已经应用于评估铜电极表面的腐蚀水平在沉浸于0.1米的硫酸铜溶液里时。腐蚀过程已经被应用感应两个这样的金属铜电极之间的电流。腐蚀过程可能引起的变化不仅在电极表面而且在溶液中光的折射率。不同DSPI的实验设置已经被提出了对于评估贡献和移除折射率的贡献。电极表面的变化作为标准通过DSPI已经被比较和地形数据获得的共焦显微镜。共焦显微镜数据表明,腐蚀过程可以小规模重现。DSPI的可能性和局限性在测量不均匀腐蚀过程已经被分析。 关键词:散斑干涉法、腐蚀、金属表面 1 介绍 腐蚀是一个大问题在工业上恶化材料性能,有时造成破坏。通常情况下,腐蚀与重要的表面改变被联系在一起。这些影响的早期检测以预防为目的是非常有用。允许腐蚀检测与样品没有物理接触真的是很有趣技术。从这个意义上讲,光学技术,由于其无损性和非接触式的特点,已经被应用与获取现场测定作为一种替代传统的接触方法。 局部腐蚀一般出现在表面被动层攻击的恶劣环境，这在某些情况下是液态腐蚀性溶液双光束获得全球腐蚀速率的值腐蚀表面处理是局部的，不均匀的，该技术提供非常有用的在表面上的二维信息，都直接关系到光路长度的变化，。是由局部表面产生两个位移，L和通过沿折射率变化光路中，n。 对于只有表面位移的情况下，相差异可以表示为，其中是灵敏度向量和ki和高是照明和观察向量。ki和ko有相同的幅度，，其中是介质的表面和周围间的折射率，是在空气中的波长。 我们将分别指的是矢量的方向作为和。因此，可以表示为 (1) 其中是表面位移的投影沿灵敏度矢量的方向 在我们的实验中，表面粗糙的金属表面（样品）在电解槽内。对于Z轴沿着表面正常，令，忽略，等式（1）可以表示为 （2） 其中和是和和曲面法线之间的角度。当只有的位移发生，相位差图是的图。在研究腐蚀过程这项工作中，不是一个位移，它与在样品的表面上的腐蚀层联系在一起。 对于只有折射率变化的情况下，相差异可以表示为 （3） 其中，指位置沿着光束行进路径和d是总长度与折射率变化 当用DSPI进行了实验，而表面浸渍在腐蚀溶液中，由于双方腐蚀深度和溶液折射率变化可以发生相位的变化。在这种情况下，总的相位差将是，忽略高阶时条款。由于我们只注重测量腐蚀深度，以确定用于从取出实测是有必要的。 测量φn腐蚀发生的同时,DSPI设置使用如图2所示。在这情况下,照明光束通过一个磨砂玻璃。斑纹产生波传播的方向X轴,通过前面的液体腐蚀表面(样本)。这种斑纹波的相位变化是由的折射率变化发生在腐蚀电池前面的示例。因此,在这种情况下沿x轴d是永远不会比腐蚀电池长,相位差图是平均折射率改变图的来源由于溶液腐蚀过程的浓度的变化 3 实验装置 3.1 腐蚀的设置 在这项工作中所分析的腐蚀过程是在表面光滑的铜棒浸渍在0.1米的硫酸铜溶液。两容器的硫酸铜（56毫米×10㎜×10mm）放置在彼此平行有12毫米间隔的电解槽内。这两个电解槽之间的电流为2.01 mA时。在本实验中，所观察到的样品是连接杆的内表面到正极。观察铜在溶器中发生的氧化过程中，失去铜原子从它的表面。被应用到所有的铜容器的表面，除了那些相对的表面。这限制了在这两个面氧化-还原处理。此外，观察到两个垂直条纹被施加在表面上的垂直边缘，以具有一些局部不变. 是适用于所有铜条,除了的相对的两个表面。这限制了在这两个面上氧化还原过程。此外,被观察到两个垂直条纹是在应用于垂直表面的边缘,局部深度不变。 因为只有11毫米的铜沉浸在容器硫酸铜溶液里,腐蚀过程发生在一个11×4.4平方毫米区域,腐蚀电流密度3.8mAmm-2。为一个统一的腐蚀过程,当前密度值将产生腐蚀层的增长速度5.5 h-μm。 3.2光学设置DSPI测量 17 mW连续氦氖激光器(λ=633海里)DSPI光学设置。激光光束分裂成两束光楔板。一束被送入一