PLC在低温等离子体处理仪应用..docVIP

汇控PLC在低温等离子体处理仪应用 设备简介 1.1 特点 ■ 一键式操作，使用方便； ■ 腔体容积大，处理样品数量多； ■ 离子浓度高，效率高； ■ 结构紧凑，经济使用； ■ 放电均匀，装卸料方便； ■ 微机自动控制，操作方便； ■ 高性能参数控制元件，参数控制精度高，重复性好。 1.2 应用 ■ 表面清洗：如粘结前、锡焊前或电镀前的表面处理； ■ 表面活化：如生物材料的表面修饰，印刷前、上漆前或粘结前的表面处理； ■ 表面刻蚀：如硅的微细加工、聚四氟乙烯件表面刻蚀处理； ■ 表面接枝：如材料表面特定基团的产生和表面活化的固定，避免时效性； ■ 表面沉积：如疏水性或亲水性层等的离子体聚合沉积。 系统架构 2.1 主要产品功能规格 控制器：汇控ID100-1410BRA主机，14点DI，10点DO，继电器输出； 比例阀：PLC通过0-10V模拟量控制比例阀的开始量； 真空计：仪表测出真空度同时输出0—10V的非线性模拟量。 人机界面：通过RS232以艾默生协议与汇控PLC进行通信。 2.2 系统结构 核心部分：汇控PLC作为控制器，承担着信号采集、处理、输出的任务； 上位部分：人机介面通过port1与PLC通讯，可对设备进行操及工作参数的调整，同时监控当前状况； 下位部分：主要是通过PLC输控制真空电机的启动停止，同时通过模拟量输出来控制比例阀的开始量，通过模拟量输入来采集真空度、进气流量。 2.3 I/O配置 PLC输入 功能说明 PLC输出 功能说明 X0 反射超标 Y0 真空电机 X1 紧停 Y1 X2 真空泵过载 Y2 总电磁阀 X3 Y3 排气阀 X4 Y4 高频电源开关 X5 Y5 蜂鸣器 X6 Y6 单片机信号 X7 Y7 X8 工作流程 3.1 一遍处理程序 在触摸屏上设定：处理功率、进气流量（两路）、处理时间三个参数。 当真空度达到某值（可设定）时（真空度信号输入0—10V） 重复以上步骤3次，重复过程中，流量和通入时间可设定 + 到达放电时间后（放电时间可设定） 放空一定时间后，放空时间可设定 3.2 两遍处理程序： 在触摸屏上分别设定： 第一遍的处理参数：处理功率、进气流量（两路）、处理时间。 第二遍的处理参数：处理功率、进气流量（两路）、处理时间。 当真空度达到某值（可设定）时（真空度信号输入0—5V） 重复以上步骤3次，重复过程中，每步的 进气流量和通入时间可设定 + 到达放电时间后（放电时间可设定） 放空一定时间后，放空时间可设定 注：清洗参数与进气参数不一样。 3.3 接枝管路清洗 在触摸屏上选择：“接枝管路清洗功能”，显示清洗进行的时间 结束语 汇控PLC以它的高精度、高稳定性及超高的性价比，使其在实验设备中的应用能更可靠；此低温等离子体处理仪使用汇控PLC作为控制核心，使其稳定性及控制放电功率方面的精度有大大的提高。  开真空泵（开关量） （220V或380V） 抽真空 1、电磁阀开（开关量） 2、质量流量计开（两路） （0—10V）控制流量 进气 高频电源开 （0—10V）控制功率等