钼溅射靶和材.pptVIP

钼溅射靶材的应用、制备及发展 北京冠金利新材料科技有限公司 前言 溅射作为一种先进的薄膜材料制备技术, 具有高速及低温两大特点。它利用离子源产生的离子, 在真空中加速聚集成高速离子流, 轰击固体表面, 离子和固体表面的原子发生动能交换, 使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面, 从而形成纳米(或微米)薄膜。而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料, 称为溅射靶材。钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜, 这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品, 如目前广泛应用的TFT - LCD ( Thin Film Transitor- Liqu id C rysta l Displays, 薄膜半导体管-液晶显示器)、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等 。 钼溅射靶材的特点及应用 在电子行业中, 钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。这些是基于钼的高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。以前, 平面显示器的配线材料主要是铬, 但随着平面显示器的大型化和高精度化, 越来越需要比阻抗小的材料。另外, 环保也是必须考虑的问题。而钼具有比阻抗和膜应力仅为铬的1 /2的优