【2017年整理】Fmoc法肽合成中正交保护赖氨酸的研究进展.docVIP

Ｆｍｏｃ 法肽合成中正交保护赖氨酸的研究进展 摘 要：综述了各种用于Ｆｍｏｃ 法肽合成赖氨酸的正交保护方法，这些保护方法对多肽的化 学修饰起着十分重要的作用。 介绍了各种正交保护赖氨酸的合成、脱除方法及在肽合成中的应 用实例，分析了各种保护基的特点、相互间的互补性及不足之处。 关　 键　 词：正交保护；肽合成；赖氨酸 １９６３年，Ｍｅｒｒｉｆｉｅｌｄ 创立了固相多肽合成 法 〔１〕 ，从此以各种保护氨基酸为原料的固相合成 研究及其应用引起了人们的广泛关注。 今天，固 相合成法得到了很大发展。 正交保护是指在一定条件下，分子中的一组 保护基可被选择性地脱除，而其他保护基不受影 响 〔２〕 。 一般情况下，正交保护是指基于机理之间 的区别，例如半永久性和临时性保护基之间的区 别，而且正交保护策略一般能提供较温和的反应 条件。 Ｌｙｓ 中的 ε氨基碱性很强，同时具有亲核作 用。 Ｆｍｏｃ 策略中，Ｂｏｃ 基团是比较好的保护基团， 对碱的稳定性好，可以有效抑制副反应的发生。 赖氨酸是双氨基的氨基酸，同时Ｌｙｓ 一般也是进行 化学修饰的位点，这时需要特殊的保护基团，一般 使用Ａｌｌｏｃ 〔３〕 、Ｄｄｅ 〔４〕 、ｉｖＤｄｅ 〔５〕 等进行正交保护。 １Ｄｄｅ 保护的赖氨酸 Ｄｄｅ 保护基团在肽合成中主要用于保护伯 胺，它是由２乙酰基５，５二甲基１，３环己二酮在ＤＭＦ 溶液中形成的〔６〕。由于它易于被 ２％ 肼／ＤＭＦ溶液脱除和在 ＴＦＡ 和哌啶溶液中相对稳定，所以Ｄｄｅ保护的赖氨酸在 Ｆｍｏｃ／ｔＢｕ 肽合成策略 中用于合成支链肽、环肽和侧链氨基修饰的肽。 １． １　 ＦｍｏｃＬｙｓ（Ｄｄｅ）ＯＨ 的合成 ＦｍｏｃＬｙｓ（Ｄｄｅ）ＯＨ 的合成方法较多。 由于 醛酮和伯胺反应生成含碳氮双键的亚胺（ 西佛 碱），亚胺在稀酸中水解，又回到原来的羰基化合 物及胺，可以用这一机理来保护赖氨酸中的 ε氨 基。 Ｐｒａｓａｄ Ｓ． Ｒａｊｅ 等 〔７〕 报道用茴香醛在碱性条件 下和赖氨酸形成西佛碱临时性地保护 ε氨基，然 后选择Ｆｍｏｃ 保护 α氨基。 稀酸水解西佛碱去除 ε氨基保护，最后选择保护基保护 ε氨基。 可以 利用这一原理合成ＦｍｏｃＬｙｓ（Ｄｄｅ）ＯＨ（图１） 〔８〕 。 图１　 ＦｍｏｃＬｙｓ（Ｄｄｅ）ＯＨ 的合成 １． ２　 Ｄｄｅ 保护基团的脱除 Ｄｄｅ 保护基团可以用２％的水合肼在 ＤＭＦ 溶 液或乙醇胺溶液中去除（ 图 ２）。 用水合肼脱除 Ｄｄｅ 时，若肽链中同时含有 Ａｌｌｏｃ 保护基团，Ａｌｌｏｃ 上的双键会被肼还原。 加入一定量的烯丙基醇作 为清除剂能阻止双键的还原 〔９〕 。 图２　 用２％的水合肼／ ＤＭＦ 溶液脱除Ｄｄｅ 保护基团 　 　 由于在利用水合肼脱除 Ｄｄｅ 保护基团时，会 有部分的 Ｆｍｏｃ 基团脱落，Ｊ． Ｊ． ＤｉａｚＭｏｃｈｏｎ 等 〔１０〕 利用盐酸羟胺（咪唑，ＮＭＰ，ＤＣＭ）在 Ｆｍｏｃ 保护基 团存在的情况下定量脱除 Ｄｄｅ 保护基团（图３）。 这种新的脱除方法在脱除 Ｄｄｅ 时不会对 Ｆｍｏｃ 保 护基团有任何影响。 图３　 盐酸羟胺（咪唑，ＮＭＰ，ＤＣＭ）溶液脱除Ｄｄｅ 保护基团 １． ３　 Ｄｄｅ 保护基团的不足之处 Ｄｄｅ 保护基团的不足之处主要有２ 点：首先， 当用２０％的哌啶／ ＤＭＦ 脱除 Ｆｍｏｃ 时，在每次脱除 过程中会有少量的 Ｄｄｅ 保护基团脱落，所以在合 成长链肽时会严重影响肽的纯度，为了避免上述 副反应产生可以使用 ＤＢＵ／ ＤＭＦ （２ ∶ ９８） 作为 Ｆｍｏｃ 的脱除试剂；其次，有报道指出 Ｄｄｅ 保护基 团会发生分子内的从侧链或α氨基到赖氨酸上ε 氨基的Ｎ → Ｎ’位移 〔１１〕 。 １． ４　 Ｄｄｅ 保护的赖氨酸在肽合成中的应用 Ｇ． Ｂ． Ｂｌｏｏｍｂｅｒｇ 等 〔１２〕 用 ＦｍｏｃＬｙｓ （ Ｄｄｅ）ＯＨ 和正交保护的Ｇｌｕ 成功地合成支链环肽。 具体方 法为 先 合 成 ＡｃＣｙｓ （ ｔｒｔ ）Ｇｌｕ （ ＯＡｌｌ ）ＡｌａＬｙｓ （Ｄｄｅ）Ｒｅｓｉｎ 后用１． ５％的水合肼／ ＤＭＦ 脱除 Ｄｄｅ 保护基团，然后赖氨酸上的ε氨基与ＦｍｏｃＧＧＥＫ ＴＲＮＱＭＧＣＯＯＨ 偶联，最后脱除Ｆｍｏｃ 保护基后的 α氨基，用Ｐｄ（ＰＰｈ ３ ） ４ 脱除 Ｇｌｕ 上的 Ａｌｌｙｌ 保护基 后的γ羧基偶联，这样便得到环肽。 ２　 ｉｖＤｄｅ 保护的赖氨酸 由于ｉｖＤｄｅ 是通过改进 Ｄｄｅ 保护基团而得到 ４ ２ 重 庆 理 工 大 学 学 报  的，它的化学性质和Ｄｄｅ 比较相似。 由于ｉｖＤｄ