实验报告真空膜6.docVIP

东北师范大学远程与继续教育学院 （网络教育） 实 验 报 告 学习中心： 山西晋中介休纺织厂教学点奥鹏 专业名称： 物理学 课程名称： 近代物理实验 学 号： 201108015237 姓 名： 李增奇 2 0 1 3年 5 月 3 日 报告正文 课程名称：近代物理实验 实验日期：2013 年 5 月 3 日 编号NO： 6 开始时间： 14 时 00 分； 结束时间：15 时 00 分； 实验题目：真空镀膜 同 组 者：李增奇 左海龙 房玉风 内 容： 实验题目：真空镀膜 作者及工作单位：李增奇 山西省介休市义安一中 内容提要：通过本实验，我们温习了真空的特点、获得和测量，学习掌握真空蒸发镀膜的基本原理，通过热蒸发法用金属锡为材料对基底玻片表面进行了镀膜。 关键词：真空 真空镀膜 实验探究 实验原理： 真空镀膜是在真空室中进行的，当需要蒸发的材料加热到一定温度时，材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能。于是大量分子或原子从液态或直接从固态汽化。当蒸汽粒子遇到温度较低的工件表面时，就会在被镀工件表面沉积一层薄膜。 要使玻璃表面在真空室中镀上一层厚度均匀的膜，为此对玻璃的表面就有一定的要求，比如清洁，没有油污等。 在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（10-5Pa）。 实验方案： 1.镀膜方式 真空镀膜按其方式不同可分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和现代发展起来的离子镀膜。这里用真空蒸发镀膜技术。蒸发镀膜是通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。 在一定的温度下，每种液体或固体都有特定的平衡蒸汽压。只有当环境中被蒸发物质的分压降低到它们的平衡蒸汽压以下，才可能有物质的蒸发。由于物质的平衡蒸汽压随温度上升增加很快，因而对物质的蒸发速率影响最大的因素是蒸发源的温度。 在真空中，气体分子密度低，在某些情况下，真空可以近似地看作没有气体“污染”的空间。真空中，气体分子或带电粒子的平均自由程为： 气体的自由程与真空度成正比。要求气体分子的自由程是源到基体距离的2～3倍。所以为了使蒸汽分子以射线状从蒸发源到基体发射，提高蒸发材料的利用率，要求真空度足够高。如果没有足够的真空度，真空室内的残余气体可能很可观，尤其是氧等气体分子容易被吸附后改变膜层结构和成分。 2.镀膜过程 真空蒸发镀膜主要包括以下几个物理过程： ①采用各种形式的热能转换方式，使镀膜材料蒸发或升华，成为具有一定能量（0.1~0.3eV）的气态粒子（原子、分子或原子团）； ②气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基片； ③粒子沉积在基片表面上并凝聚成薄膜。 实验基本方法：先用机械泵作前级泵获得低真空，在利用油扩散泵作次级泵来获得高真空，同时用FZH—2B型复合真空计中的热偶计测低真空、电离计测高真空，检查需要的真空度是否达到。最后再进行热蒸发镀膜。 实验内容：（1）镀膜室的清理与准备。由于真空室的盖子难以打开，所以先向真空室内充气一段时间，盖子便可轻易取下。清理镀膜室，出去真空室内的残余金属，壁上的沉积物可以用酒精清洗。将金属锡丝折成勾状，大约6个，置于金属钨丝上，最好能和钨丝充分接触，但不能使得钨丝部分短接。 2）准备基底：清洗载玻片。在真空室顶部装好基底，关好真空室。 3）打开FZH—2B型复合真空机电源，预热十分钟。 4）WDY—V型电子衍射仪接通电源，把三通阀往外拉到底，打开机械泵（这时机械泵开始抽真空室的空气），先把复合真空计打到左测量档，观察指针变化，发现变化很慢，再打到右测量档，发现指针示数变化比较快，说明右侧的测量档测量的为真空室的气压。 5）把复合真空计打在右测量档，观察示数，当示数低于6.7帕时，把复合真空计打在左测量档，然后把三通阀往里推到底，仍然使示数低于6.7帕，这时再把复合真空计打到右测量档，观察示数（此时真空室的压强），如果发现示数高于6.7帕，那么把三通阀往外拉到底，让机械泵继续抽真空室。同样，如果储气瓶的气压高于6.7帕，则抽完真空室后仍需要把三通阀往里推到底，让机械泵抽储气室。让机械泵反复抽真空室和储气瓶的气压，要使真空室储气瓶的气压都