等离子体辅.助CVD技术.pptVIP

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2017-01-24 发布于北京
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等离子体辅.助CVD技术.ppt

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薄膜材料制备技术Thin Film Materials 北京科技大学材料科学学院唐伟忠 Tel: 6233 4144 E-mail: wztang@ 课件下载网址： wztang_teaching@ 下载密码： 123456 第六讲薄膜材料制备的等离子体辅助CVD方法 Preparation of thin films by plasma enhanced CVD （PECVD) processes 提要等离子体的一般性质等离子体辅助CVD的机理和特点等离子体辅助的CVD方法等离子体辅助化学气相沉积（PECVD) PECVD 的主要优点薄膜 PECVD 低温沉积的主要优点 PECVD方法存在的问题 PECVD薄膜沉积均匀性的条件 PECVD薄膜沉积过程的数学模拟第六讲小结薄膜的CVD过程可以由等离子体辅助来实现 PECVD的主要特点是它可以有效降低CVD过程的温度各种辉光、甚至弧光放电过程都可以被用于PECVD 直流、射频、微波激励手段都可被用于PECVD 基本概念复习等离子体中电子所涉及的微观过程等离子体的一般性质 PECVD 技术的主要优点 PECVD 涉及的主要微观过程各种等离子体的产生方法和相应的 PECVD 技术简况 PECVD 方法的局限性 X-射线分为：荧光x-射线（特征谱），与元素有关，用于分析成分，即电子探针功能连续谱 X-射线的检测方法有二： 1）EDX：用检测器限于分析11（Na）或5（B）号以上元素，灵敏度达0.1%，有时相近元素峰峰相互重叠。分析速度快 2）WDX：用检测器可分析11（Na）或5（B）号以上元素，灵敏度达0.01%。可分辨相近元素分析速度慢目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深提高约300倍目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深提高约300倍目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深提高约300倍目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点：