4-芳香族化合物全解.pptVIP

2 苯的加成反应： 3 氧化 邻对位定位基—大多致活： 强: O-, NR2, NHR, NH2, OH, OR 中: RCONH-, RCOO-; 弱: CH3(R), Ar, F, Cl, Br, I 3. 定位效应的其他影响因素： (2) 萘的化学性质性质： 5 菲 致癌芳烃： 4.5 多环芳烃的污染源 (1)燃料作为能源的过程 (2)废弃物的燃烧及矿化过程 (3)吸烟 (4)燃料作为化工原料进行化工生产的过程 1 定位规律： E+ 亲电取代 几率 40% 40% 20% 如果不考虑取代基的影响，仅从统计规律的角度来分析，邻对位产物应为60%，间位产物为40%。 邻对位定位基：邻对位产物 60%，G为邻对位定位基。 间 位 定 位 基：间位产物40%。 G为间位定位基。 活 化 基 团：若取代基引入后，取代苯的亲电取代反应 速度比苯快，则取代基为活化基团。 钝 化 基 团：若取代基引入后，取代苯的亲电取代反应 速度比苯慢，则取代基为钝化基团。 取代基的定位效应：已有的基团对后进入基团进入苯环的位置产生制约作用， 这种制约作用称为取代基的定位效应。 §4.4.7苯环上亲电取代反应的定位规律 及其应用 新导入取代基的位置 主要取决于原有的取 代基的性质 间位定位基—大多致钝： + NR3, NO2, CF3, CCl3, CN -SO3H, -CHO, RCO-, COOH NH2CO-, 常见基团 致钝 第二类定位基（即间位定位基） 2 定位规律的理论解释： 第一类定位基以甲苯为例: 从共振论的观点看: 11.5 72.7 15.8 C(CH3)3 7.7 62.3 30 CH(CH3)2 6.5 48.5 45 C2H5 4.40 37.15 58.45 CH3 间位% 对位% 邻位% R 1). 空间因素（原有基团的体积）: 2). 温度的影响: 3) 新引入基团的空间效应： 新引入基团进入芳环的位置，不仅与环上原有基团的 性质和空间位阻有关，还与新引入基团本身的体积有关。 结论：对位产物随新引入基团体积的增大而增多。 如果芳环上原有基团与新引入基团的空间位阻都很大 时，对位产物几乎为100%。 除空间因素外，反应温度、催化剂对异构体的比例也有一定的影响。 4)原有两个取代基为不同类定位基：由第一类定位 基决定。 【例1】 4 定位规律的应用： 4.4.8 多环芳烃 1 多苯代脂烃 二苯甲烷 三苯甲烷 1，2-二苯乙烷 链烃分子中的氢被两个或多个苯基取代的化合物称为多苯代脂烃 命名 多苯代脂烃命名时，一般把苯基作为取代基 2 联苯 二联苯 三联苯 2，2’-二氯联苯 2，4’-二硝基联苯 命名 两个或多个苯环以单键直接相连的化合物称为联苯类化合物。 2 重要稠环化合物的名称和结构 蒽 萘 菲 1,4,5,8称为?位2,3,6,7称为?位 1,4,5,8称为?位2,3,6,7称为?位9,10位称为中位 有五种不同的位置1-8，2-7，3-6，4-5，9-10。 亲电取代反应最易在萘的?位，蒽的中位，菲的9，10位发生。 4.4.9 稠环化合物 1 定义： 两个或多个苯环公用两个邻位碳原子的化合物 称为稠环芳烃。 3 萘 (1) 结构特点： 平面环状共轭体系，离域能255kJ/mol 2x150.5kJ/mol 芳香性比苯差，破坏一个环255-150.5=104.5kJ/mol 较易加成，氧化，亲电取代也比苯易。 1, 4, 5, 8 (α)-位电子云密度最高亲电取代也最易 2, 3, 6, 7(β)-位电子云密度次之亲电取代也次之 9, 10 –位成桥的C原子，一般不反应。 1). 亲电取代： A. 卤代： B. 硝化： C. 磺化： α–位：取代较快，但磺化可逆，温高则8-位H 干扰大，逆反应大?脱磺酸基 β-位：取代慢，但生成的产物稳定 D. 付-克反应： 烷基化：多取代，开环—产物复杂，无实用价值。 酰基化： 2) 萘的氧化反应： 3) 加氢反应：