H2在ZnO和NiO上的吸附 H2的吸附:释放出电子 实验证实: n型氧化物,如:氧化锌 释放出的电子进入几乎空的导带,没有势垒,可以达到较高的覆盖率,电导随覆盖度的增加而增加。 p型氧化物,如:氧化镍 释放出的电子将填入价带的正穴。价带中的正穴很少,电子将进入晶体中较深的层中,这一过程有势垒,不能达到较高的覆盖率,电导随覆盖度的增加而降低。 小结:四种组合,两类吸附 两类半导体:n型,p型 两种吸附质:受主型A,施主型D 四种组合,两类吸附 累计性化学吸附:p-A组合,n-D组合 电导率增加,吸附能力大,覆盖度达到1。 消耗性化学吸附:n-A组合,p-D组合 电导率下降,吸附能力小,覆盖度很小。 根据化学吸附状态可分为3种吸附类型 a.弱键吸附 自由电子或空穴没参与吸附键的形成,被吸附的分子保持电中性,这种吸附状态称为弱键吸附 b.受主键吸附 吸附分子从半导体催化剂表面得到电子,吸附分子以负离子态吸附。如O2吸附 c.施主键吸附 吸附分子将电子转移给半导体表面,吸附分子以正离子态吸附。如H2吸附 2、氧化物催化剂的半导体机理 1、半导体催化的电子机理 反应过程通常伴随反应物与催化剂之间的电子转移:表面化学吸附形成单电子键、双电子键或离子键 例如:A+B →C 催化剂的作用:电子
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