吉林大学半导体器件物理第三章-第一部分概要
第三章双极结型晶体管 第三章双极结型晶体管 发展历史 1947.12.23日第一只点接触晶体管诞生-Bell Lab.(Bardeen、Shockley、 Brattain)1949年提出PN结和双极结型晶体管理论-Bell Lab.(Shockley)1951年制造出第一只锗结型晶体管-Bell Lab.(Shockley) 1956年制造出第一只硅结型晶体管-美得洲仪器公司(TI) 1956年Bardeen、Shockley、Brattain获诺贝尔奖1956年中国制造出第一只锗结型晶体管-(吉林大学 高鼎三)1970年硅平面工艺成熟,双极结型晶体管大批量生产 3.1双极结型晶体管的结构 3.1双极结型晶体管的结构 3.1双极结型晶体管的结构 3.1双极结型晶体管的结构 芯片是通过以下步骤制造出来的 衬底制备 衬底为低阻N型硅,电阻率在 左右,沿(111)面切成厚约 的圆片,研磨抛光到表面光亮如镜。 外延 外延层为N型,按电参数要求确定其电阻率及厚度。 一次氧化 高温生长的氧化层用来阻挡硼、磷等杂质向硅中扩散,同时也起
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