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CVD氧化锡薄膜里的雾化起因 摘要：掺杂锑的氧化锡薄膜、掺杂氟的氧化锡/掺杂锑的氧化锡的双层膜的原始雾化态已经被研究过，两者都用化学气相沉积法沉积在钠硅钙的浮法玻璃基体上。这些透明、导电的氧化物薄膜在生产建筑用阳光控制玻璃产品时作用很大。因此，了解雾化的起因对开发雾化水平比较低的、具有红外反射功能的镀膜玻璃来说是必要的。将样品的雾化程度与表面粗糙度和孔类缺陷的浓度联系起来并与与抛光样品做了对比。表面粗糙度通过原子力显微镜来评价并通过估计的RMS值来表示其特征。当氧化锡的薄膜比较薄时（200nm）,内部的孔洞缺陷是引起雾化的原因；而当氧化锡膜比较厚时（400nm）表面粗糙度是雾化的起源。 1、简介 具有红外反射和阳光控制性能的玻璃产品在建筑和汽车方面得到了广泛的应用。在冬天降低热量消耗、在夏天减少制冷量和保护内部物体的表面使之免受射线损害，这些是当前玻璃研究中的一部分重点。玻璃表面上镀膜和调整玻璃成分是达到这些目标的两个最基本途径。因为薄膜的反射性，因此普遍采用在玻璃表面大面积镀膜来进行热量和阳光控制。在玻璃表面大范围镀膜可以通过真空溅射沉积法或一种常压下热解技术实现。热解技术可以生产出了比真空技术更耐久实用的氧化物薄膜。在线CVD充分利用了玻璃的灼热表面。金属有机化合物作为氧化物薄膜的前驱物可以容易地在玻璃带上或靠近玻璃带的地方分解。最终生成的氧化物薄膜与玻璃基体之间有很强的粘附力，因此不必要再进行后续的热处理作业了。 很多CVD镀膜玻璃产品用导电的氧化锡膜作功能层赋予玻璃低辐射性。在氧化锡薄膜中掺杂氟或锑通常可用于增加导电性能，降低它的辐射率。当掺杂锑时，对太阳光还有吸收性。除了要满足热量和阳光控制需要外，最终的玻璃产品还要满足美观需要。在消费者眼中，玻璃的反射色、透射色和雾度才是最重要的特点。薄膜的光学性能与薄膜的厚度是密切相关的。薄膜中存在的光学散射点导致了雾化现象，这使得玻璃美观性受到损害。当缺陷的尺寸与可见光波长具有可比性，且在此点处有折射系数的差异时，在这些点就会出现雾化现象。 如果在膜内部的某些缺陷和杂质处，称为内在雾化；如果膜的粗糙度足够大，在膜与空气的接触表面的缺陷或杂质上，就会发生光的散射，称为皱纹雾化。当使用含有无机卤化物或有机金属作为前驱物用于在钠钙硅玻璃上镀膜时，经常可以在薄膜上发现卤化钠缺陷。在玻璃表面的薄膜里，这些缺陷就是最常见的散射中心。在活性薄膜中，常使用钠的阻挡层，即非化学计量比的硅膜，来防止氯化钠缺陷的形成并减少内部雾化。为了减少皱纹雾化，在高雾化的氧化锡膜中采用无定形的氧化钨来填充粗糙表面的凹谷并在粗糙薄膜的空气表面降低光的散射。 这里我们报道了一系列厚度（2000－5000埃）范围的CVD沉积掺杂氧化锡膜的雾化研究的系统结果。我们的目的就是对所有不同的雾化来源进行分析。 2、实验依据 通过CVD技术可以把掺锑和掺氟的氧化锡薄膜(Sb:SnO2和F:SnO2独立)沉积在移动的热玻璃带上。CVD设备的详细资料已经描述在资料5里面了。掺杂的氧化锡的前质分子是一丁基三氯化锡（MBTC）、三氯化锑和三氯乙酸（TFA），所有这些都可从ATOFINA中获得。薄膜沉积区的玻璃温度保持在650到660度之间以保证薄膜与玻璃之间良好的吸附状态。 Sb:SnO2和F:SnO2膜都沉积在钠钙硅的浮法玻璃表面上。样品雾度（散射光的百分比）可以通过视觉观察到和BYK加德纳雾度表来定量检查。制备好的样品和抛光样品的表面形貌可以通过原子力显微镜（AFM）来研究。观察并分析的表面图像范围是5×5微米、10×10微米、25×25微米。掺杂的氧化锡薄膜的厚度可以通过Tencor P1表面光度仪来测量。通过Zn/HCl化学法从玻璃表面把2mm的膜的窄带剥离出去。在这个方法中，锌粉末被放在氧化锡膜的上面，然后它和稀盐酸接触。锌粉和稀盐酸的反应产生了单质氢气，它减少了氧化锡膜中的四价锡离子。随后，减下来的锡在过量盐酸的作用下形成了可溶的氯化锡。用质量浓度10％的氧化铈和水组成的泥浆抛光掺杂的氧化锡表面。把泥浆放在样品表面，用手持的电抛光器研磨薄膜以便于控制时间长短。对每一个样品，在样品抛光前和之后都要进行雾度、厚度的测量和原子力分析。 3、结果和讨论 通过X射线衍射（XRD）分析CVD沉积，掺杂的氧化锡薄膜证实掺杂氟和锑的氧化锡膜都有大量锡石结构的晶体出现。尽管单位晶胞参量不受掺杂离子（氟或锑）影响，对于两种不同掺杂的氧化锡膜，在XRD的衍射花样中，代表不同的晶面取向的特征峰的相对强度明显不同（图1）。F:SnO2膜的首选晶面方向是（200），而Sb:SnO2的是（110）。XRD中特征峰的相对强度不随沉积条件改变，而是仅依赖于掺杂离子（Sb、F和（F）Sb）。掺杂的氧化锡膜的雾度强烈依赖于膜的沉积条件（在化学药剂配料中主要是水