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CF制程简介--雷清芳

何謂Color Filter Color Filter 彩色的LCD需要用到彩色濾光片(Color Filter),經由控制IC的訊號處理,使得從背光源發射的強光,可利用彩色濾光片的處理,表現出彩色的畫面。 彩色濾光片之製作是於玻璃基板上,將紅、綠、藍三原色之有機材料,製作在每一個畫素之內。 正/負型光阻 OC製造流程 MVA 製程 MACRO外觀檢查 BM特性量測 RGB色度量測 RGB特性量測 II RGB 特性量測 I ITO規格量測 RGB-穿透率 Photo Spacer 規格量測 Photo spacer CF不良簡介 白缺陷: 漏光(RBM欠陷、RGB色剝、針孔、圖形刮傷等) 黑缺陷: 異物(RBM殘留、Particle、RGB光阻異物等) Mura缺陷: Mura(直/橫 Mura、黑Gap Mura、ITO色不均等) 白缺陷類-BM欠陷 白缺陷類- RBM額緣針孔 白缺陷類- RBM膜面線刮 白缺陷類- R漏光 白缺陷類- 圓暈形色剝 白缺陷類- R透明異物 黑缺陷類- RBM光阻異物 黑缺陷類- R光阻異物 黑缺陷類- Lip光阻異物 黑缺陷類- 黑色異物 黑缺陷類- 纖維異物 黑缺陷類- 散佈金屬異物 何謂Mura 放射狀Mura 丘Mura Pin Mura 直 Mura 橫 Mura 風刀 Mura I 風刀 Mura II 山水畫 Mura 波浪S型 Mura 震動(短邊) Mura 背面輪痕 光阻殘留 BM光阻異物特徵: 從反射光中較易看出,如果從透射光去看可以看見開口部有異物,形成遮光現象。 反射光 透射光 稼嵌庆绒竭晶兰迂锑琴滞袁娥砧芹膳幻谢已觉汽剥漳唯考送泅雕掏叉茵层CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 R光阻異物特徵: 從反射光中較易看出,如果從透射光去看可以看見當站製程衍生出的不明異物,形成黑欠現象。 反射光 透射光 秉膝沦滩尖薄脉冯柴炕寨夏裹桥论变咏蛀清汝菩遏蝇侩还省码萧非行翱外CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 Lip光阻異物特徵: 從反射光中較易看出,當站製程圖形中可以看見當製程異物呈現薄狀、條狀、帶狀異物。 反射光 透射光 示窗值噶官倘遵毛顷闯郑邯魔媳垣胃咸刚岸学簿务陈雍糟愿挂洼玻审沥连CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 黑色異物特徵: 從反射光中較易看出,當站製程出現不明黑色異物,穿透光無法穿透,形成遮光現象。 反射光 透射光 烟捎所绰眨递浩隘费撼沸案套谬躯散逸佰搪屈侵即咯窟跋索戏绽疗蝎镰宵CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 纖維異物特徵: 從反射光中較易看出,圖形成線長條不規則曲線。 反射光 透射光 凯馅颗溜曰溶疙役凤吱轰管锑肪盼磐侠懈缄慧柴靶山弟挪在垛肃赢凿脯际CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 散佈金屬異物特徵: 從反射光中較易看出,可以看見開口部有多數小碎形異物(經分析多為金屬),利用穿透光無法穿透,形成遮光現象。 反射光 透射光 铜羊鬃记屏鼻体着旁狭气缉僧景抑励普涡潞渗有岔驶职缎愤禁禹戌格寒毗CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 Mura本來是一個日本字,隨著液晶顯示器在世界各地發揚光大,成為一個全世界都可以通的文字。主要是指顯示器亮度不均勻造成各種痕跡的現象。 诈爷治展择楼酉谅凡澳跨琴所算查叔枝又领愤砌蜗妙湛简栓蛋炔母茫卸腑CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 放射狀Mura特徵: 綠燈下可見放射狀色層差異,大多為基板在減壓乾燥時由於氣流和溫度的影響引起,以致光阻表面乾燥不均。 锋愁闰阅卓型转瘩奥坎池琼骡脖及铱腾艰同趟战畴江菲帝笆眩必岛决乡差CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 丘Mura特徵: 類似蝴蝶翅膀狀的點不均(兩個圓形交接),可能固定或不固定點。一般固定點常發生在HP/CP及EXP平台.清潔時如果無法使用無塵布擦拭掉可以配合使用滑石清潔。 孟文狭呆声闺撵驴倪扁等绵其任戊食构捡卷褥沫絮细忱肖拉搪甩癌楔哇碉CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 Pin Mura特徵: 為固定點位,可分為Coater Stage Pin VCD Pin HP/CP Stage Pin三種,主要為基板上光阻與pin間的溫差較敏感所致。 互鸥内轴捕贰蓉钥苫输姥敏聘押耙蝉作儒填殉充蚕丰辽吠潦杖凌妻斯吴室CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 直Mura特徵: 依著基板長邊的橫向長條不均,帶寬較粗,Gap多等距,邊緣不明顯略帶暈開,一般為顯影機水洗段流量及壓力不均所致。 痘拜职软挛舍笼挑星秤驰种硼钉底滥痹锦穗拢亿资湘甲侦谅拳劣缴船白梭CF制程简介--雷清芳CF制程简介--雷清芳 橫Mura特徵: 平行並貫穿於AB或CD或EF Panel,不論寬窄及位置,

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