第一章真空镀膜绪论.pptVIP

?《真空镀膜技术与设备》Vacuum Coating Technology and Equipment? 过程装备与控制工程专业 （原真空技术及设备专业） 本科生专业选修课讲稿 Preface Name of lesson: Vacuum Coating Technology and Equipment 课程名称： 真空镀膜技术与设备 Definition: Vacuum coating technology is to deposit a kind of thin film on the substrate by some sorts of methods under vacuum condition in order to change the property of the substrate 定义：在真空条件下（条件），利用某种方法（方法）在固体表面上沉积或生成一层与机体材 见P1 料不同的薄膜材料（结果），从而改变机体的表面性能（目的），就是真空镀膜技术。 意义：真空镀膜技术是真空技术的一个重要领域，广泛应用于各行各业。 教材TextBook: 《真空镀膜技术》 关奎之等编著 本书是为本科生和研究生教学编写，受学时所限，本书的一些章节（如7、8、10章）和一些较深、较细的理论、设计计算不能讲。 参考教材Reference book: 《真空镀膜技术与设备》 李云奇主编 课时安排Arrangement : total 34 h Ch.1概论 2 h Ch.2真空镀膜技术的物理基础 4 h Ch.3真空蒸发镀膜 4 h Ch.4真空溅射镀膜 3 h Ch.5真空离子镀膜及离子束沉积技术 1 h Ch.6化学气相沉积技术 2 h Ch.7真空镀膜测试分析技术 6 h Ch.8真空镀膜设备设计 6 h 实验 2 h 考试 2 h 重点内容： 1.各种镀膜原理、镀膜源结构 principle and structure 2.各种镀膜设备结构设计及镀膜工艺 design and technology ? 达到要求： 1.能够设计和使用镀膜设备 2.为从事真空镀膜技术研究工作打下基础 1.3 真空镀膜技术的分类Classification of vacuum coating technology 1)物理气相沉积 Physical Vapor Deposition — PVD （1）??? 蒸发镀膜 Evaporation Deposition 加热膜材使其汽化，加热源为条件 （2）??? 溅射镀膜 Sputtering Deposition 正离子轰击膜材使其溅射，气体放电为条件 （3）??? 离子镀膜 Ion Coating 二者结合，汽化的膜材粒子离化为条件 (4) 离子束沉积Ion Beam Deposition 束流沉积，膜材为离子束，离子束源为条件 2)化学气相沉积 Chemical Vapor Deposition — CVD 低压化学气相沉积 Low Pressure Chemical Vapor Deposition —LPCVD （1）热化学气相沉积 Heat CVD H-CVD （2）光化学气相沉积 Light CVD L-CVD Laser CVD （3）等离子体化学气相沉积 Plasma CVD P-CVD （4）微波化学气相沉积 Microwave CVD M-CVD 3)物理化学气相沉积 Physical-Chemical Vapor Deposition — P-CVD （区分） 各种方法的对比，详见P2 表1-1，P3表1-2 1.4 薄膜的应用Application of thin film 参见P4表1-3 1)光学薄膜 反射膜：平面镜，玻璃镜以铝代银；聚光镜：手电筒灯碗，汽车前灯，聚光灯 透射镜：减反增透膜，所有光学镜片，激光器砷化镓透射光窗 多层折射、衍射、干涉膜：冷光源灯碗 智能窗： 2）装饰膜 由于主要是镀表面反射膜，所以有些厂家也将用于镀装饰膜的镀膜机称为光学镀膜机。 小件工艺品：石膏大马，金属丝帆船，服装饰品，假金戒子、金首饰，灯具构件 手表： 表壳 表