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第1章 半导体二极管及其基本电路 1.1 半导体的基础知识 1.2 半导体二极管 1.3 二极管基本电路及其分析方法 1.4 特殊二极管 漂移运动:两种载流子(电子和空穴)在电场的作用下产生的运动。其运动产生的电流方向一致。 扩散运动:由于载流子浓度的差异,而形成浓度高的区域向浓度低的区域扩散,产生扩散运动。 2 PN结的单向导电性 PN 结加反向电压(反向偏置) 二极管的主要参数 最大整流电流IF:最大平均值 最大反向工作电压UR:最大瞬时值 反向电流 IR:即IS 最高工作频率fM:因PN结有电容效应 1.3 二极管基本电路及其分析方法 1.3.1 二极管的等效电路 1.3.2 二极管电路模型分析法 三、二极管的等效电路1、将伏安特性折线化 1.4.1 稳压二极管 硅稳压管伏安特性 稳压管工作在反向电击穿区 UZ稳定电压(IW = IWmin- IWmax) IW稳定电流 电击穿-可恢复 热击穿-不可恢复 例题:求IZ?并计算R值是否合适? 解: IZ=(20-12)/(1.6×103) =5×10-3A =5mA 因为IZIZM 所以R电阻值合适 理想二极管 1.4.2 其他类型的二极管 发光二极管 光电二极管 变容二极管 典型题解 小结 PN结是半导体的重要组成部分 二极管的伏安特性曲线用于分析二极管的工作原理 稳压二极管是一种特殊的二极管 二极管电路的分析,主要采用模型分析法,一般采用恒压降模型,信号很小时,采用小信号模型。 (1) 正向特性 硅二极管的死区电压Uth=0.5 V左右, 锗二极管的死区电压Uth=0.1 V左右。 当0<u<Uth时,正向电流为零,Uth称为死区电压或开启电压。 当u>0即处于正向特性区域。 正向区又分为两段: 当u>Uth时,开始出现正向电流,并按指数规律增长。 (2) 反向特性 当u<0时,即处于反向特性区域。 反向区也分两个区域: 当UBR<u<0时,反向电流很小,且基本不随反向电压的变化而变化,此时的反向电流也称反向饱和电流IS 。 当u=UBR时,反向电流急剧增加,UBR称为反向击穿电压 。 在反向区,硅二极管和锗二极管的特性有所不同。 硅二极管的反向击穿特性比较硬、比较陡,反向饱和电流也很小;锗二极管的反向击穿特性比较软,过渡比较圆滑,反向饱和电流较大。 从击穿的机理上看,硅二极管若|UBR|≥7V时, 主要是雪崩击穿;若|UBR|≤4V时, 则主要是齐纳击 穿。当在4V~7V之间两种击穿都有,有可能获得 零温度系数点。 2、伏安特性受温度影响 T(℃)↑→在电流不变情况下管压降u↓ →反向饱和电流IS↑,U(BR) ↓ T(℃)↑→正向特性左移,反向特性下移 1.2.3 半导体二极管的参数 半导体二极管的参数包括最大整流电流IF、反向击穿电压VBR、最大反向工作电压VRM、反向电流IR、最高工作频率fmax和结电容Cj等。几个主要的参数介绍如下: (1) 最大整流电流IF—— 二极管长期连续工 作时,允许通过二 极管的最大整流 电流的平均值。 (2) 反向击穿电压UBR——— 和最大反向工作电压UR 二极管反向电流 急剧增加时对应的反向 电压值称为反向击穿 电压UBR。 为安全计,在实际 工作时,最大反向工作电压 UR一般只按反向击穿电压 UBR的一半计算。 (3) 反向电流IR (4) 正向压降UF (5) 动态电阻rd 在室温下,在规定的反向电压下,一般是最大反向工作电压下的反向电流值。硅二极管的反向电流一般在纳安(nA)级;锗二极管在微安(?A)级。 在规定的正向电流下,二极管的正向电压降。小电流硅二极管的正向压降在中等电流水平下,约0.6~0.8V;锗二极管约0.2~0.3V。 反映了二极管正向特性曲线斜率的倒数。显然, rd与工作电流的大小有关,即 rd =?UF /?IF 结电容为扩散电容与势垒电容之和。 扩散路程中电荷的积累与释放 空间电荷区宽窄的变化有电荷的积累与释放 1.3.1 半导体二极管的等效模型 线性化:用线性电路的方法来处理,将非线性器件用恰当的元件进行等效,建立相应的模型。 (1)理想二极管模型:相当于一个理想开关,正 偏时二极管导通管压降为0V,反偏时电阻无穷大,电流为零。 (2)理想二极管串联恒压降模型:二极管导通后,
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