石英基底增透膜的设计与制备.docVIP

编号 本科生毕业设计 石英基底增透膜的设计与制备 Design and Preparation of Quartz substrate antireflection coating 学 生 姓 名 李准 专 业 光电信息工程 学 号 090212307 指 导 教 师 张静 学 院 光电工程学院 二〇一三年六月毕业设计（论文）原创承诺书 1．本人承诺：所呈交的毕业设计（论文）《石英基底增透膜设计与制备》，是认真学习理解学校的《长春理工大学本科毕业设计（论文）工作条例》后，在教师的指导下，保质保量独立地完成了任务书中规定的内容，不弄虚作假，不抄袭别人的工作内容。 2．本人在毕业设计（论文）中引用他人的观点和研究成果，均在文中加以注释或以参考文献形式列出，对本文的研究工作做出重要贡献的个人和集体均已在文中注明。 3．在毕业设计（论文）中对侵犯任何方面知识产权的行为，由本人承担相应的法律责任。 4．本人完全了解学校关于保存、使用毕业设计（论文）的规定，即：按照学校要求提交论文和相关材料的印刷本和电子版本；同意学校保留毕业设计（论文）的复印件和电子版本，允许被查阅和借阅；学校可以采用影印、缩印或其他复制手段保存毕业设计（论文），可以公布其中的全部或部分内容。 以上承诺的法律结果将完全由本人承担！ 作者签名： 年 月 日摘 要 本文介绍了增透膜的镀膜工艺以及基本理论，并利用膜系设计软件设计了以JGS1石英玻璃为基底对635nm和1064nm处满足透射率要求的增透膜，选用ZrO2以及MgF2作为镀膜材料，采用电子束加热蒸发的方法进行薄膜制备，用石英晶体控制系统控制薄膜的物理厚度，在制备过程中努力改进工艺参数，提高控制精度。利用TXX-700型镀膜机镀制薄膜。最后，利用分光光度计对制备的增透膜进测试，测试结果透射率曲线满足技术要求。 关键词： 增透膜 膜系设计 电子束加热蒸发 石英晶体监Abstract This article describes the antireflection film coating process and the basic theory ,and use coating design software designed to JGS1 quartz glass as the base for the 635nm and 1064nm transmission rate to meet the requirements of two antireflection coating. ZrO2 and MgF2 used as coating materials, using electron beam heating evaporation method for thin films, with quartz control system the physical thickness of the film, in the preparation process improvement process parameters to improve the control precision, the use of TXX-700-type coating machine coating made film. Finally, the use of spectrophotometer antireflection coating into the prepared test results transmittance curve to meet the technical requirements. Keywords: Antireflection coating; Coating design; Electron beam heating; Quartz crystal monito 目 录 摘 要 Ⅰ Abstract Ⅱ 第1章 绪 论 1 1.1目的和意义 1 1.2 增透膜 1 1.3 增透膜发展历史与国内外研究现状 2 第2章 膜系设计 2 2.1 材料选择基本原则 2 2.2 常用的镀膜材料 3 2.3 膜系设计 4 第3章 制备工艺 6 3.1镀膜设备 6 3.2镀膜系统工作原理 7 3.2.1 真空系统原理 7 3.2.2 电子束加热蒸发原理 7 3.2.3 薄膜控制系统 8 3.3主要工艺因素 10 3.4工艺过程 11 第4章 误差及测试结果分析 11 4.1 实验结果 11 4.2 误差分析 12 4.3薄膜质量测试 14 结 论 16 参考文献 17