第四章滴定方法及应用-配位滴定法教案.ppt

* 三、配位滴定条件的选择 （二）掩蔽及解蔽作用 1.掩蔽法 :加入一种试剂干扰离子反应，使溶液中的干扰离子的浓度降低至很小，以致不能与EDTA发生配位反应，从而消除共存离子的干扰。 掩蔽剂 ：加入的试剂。 配位掩蔽法 掩蔽方法根据反应类型不同可分为 沉淀掩蔽法 氧化还原掩蔽法 配位掩蔽法：是利用配位反应降低干扰离子浓度以消除干扰。 沉淀掩蔽法：是在溶液中加入一种沉淀剂与干扰离子生成一种难溶性的物质来降低干扰离子浓度以消除干扰。 氧化还原掩蔽法：是利用氧化还原反应来改变干扰离子的价态以 消除干扰。 * 三、配位滴定条件的选择 （二）掩蔽及解蔽作用 2.解蔽作用：采用掩蔽法对某一离子进行滴定后，再加入一种试剂，将已被掩蔽的离子释放出来，这种方法称为解蔽。 解蔽剂 ：具有解蔽作用的试剂。 将掩蔽和解蔽方法联合使用，混合物不需分离可连续分别进行滴定。 * 三、配位滴定条件的选择 （二）掩蔽及解蔽作用 掩蔽 解蔽 被测离子： 被掩蔽离子： 掩蔽剂： * 四、金属指示剂 四、金属指示剂 金属指示剂:一种能与金属离子生成有色配合物的显色剂，以它的颜色改变来确定滴定过程中金属离子浓度的变化，这