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第六层奎田表面I租学术套设 兰州 2006车8月 3.巯丙基三甲氧基硅烷自组装膜的制备及其摩擦学性能 白涛,程先华, (上海交通大学机械与动力工程学院,上海200030) 摘要:采用分子自组装技术在羟基化的玻璃基片表面制备了3一巯丙基三甲氧基硅烷单层膜 分析了薄膜表面典型元素的化学状态,并运用静一动摩擦系数测定仪评价了薄膜的摩擦磨损性能. 研究结果表明:在组装初期,硅烷水解产物主要是与基体表面的羟基发生聚合反应,表面出现岛状 物:随着组装时间的增加,基体表面的有机硅烷分子之间发生聚合反应,当组装90min后,可以在 基体表面形成完整的自组装薄膜.当组装MFIE-SAM后,基片表面的摩擦系数由无膜时的0,85降 到了o.19,说明MFIT,SAM可以降低基片的摩擦系数,并且在较低载荷下具有较好的耐磨性能。 关键词: 3-巯丙基三甲氧基硅烷; 自组装;纳米膜;摩擦磨损性能 微电子机械系统(MEMS黼体积小、质量轻、集成度高和智能化高等特点,受到国内外科学 界、产业界的高度重视【l】。由于MEMS结构尺寸微型化以后,构件间的间隙处在纳米量级,摩擦 w。近20年来发展起来的分子有序薄膜润滑技 和黏着等摩擦学问题严重影响了MEMS的可靠性B 术为解决这个问题提供了有效途径。 自组装膜(SAM)是近年来发展起来的新型有机超薄膜,与分子束取向生长(NBE)和化学 沉积(CVD)膜相比,SAM有更高的有序性和取向性旷卅。通过对SAIVl方便灵活的分子设计可获 得不同结构及物理化学性能的表面,可以从分子原子水平研究超薄膜的摩擦和润滑及结构和摩擦学 性能的关系。利用分子自组装技术,将化合物分子通过某种作用嫁接到摩擦表面,形成“分子刷” 以降低摩擦磨损,可以实现超薄膜润滑。近年来由于自组装薄膜对于解决微机电系统中的摩擦学问 题具有很重要的作用,引起了国内外学者极大的兴趣,许多学者在这一领域展开研究,取得了很多 研究成果弘…,但是对于分子自组装膜的制备技术及其摩擦学性能还有待于进行系统深入的研究。 本文在玻璃基片表面制备了3一巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)自组装单层薄膜,并研究了干摩擦条 件下薄膜与GCrl5钢配副时的摩擦磨损性能。 1实验部分 1.1试剂及材料 璃基片为普通载玻片,由上海精轮工业玻璃有限公司生产。 1.2硅烷自组装单层膜的制备与表征 将玻璃基片用去离子水冲洗后.置于去污粉溶液浸泡12小时.将取出的基片用丙酮冲洗,再 用去离子水反复冲洗后,干燥后进行羟基化处理。将玻璃基片浸入PiI曲∞溶液(H2S04:H202-70:30, v,、r)中,90C下浸泡1h,取出后用去离子水反复冲洗,然后用高纯氮气吹干。水在羟基化处理 玻璃基片表面的接触角≤1。,表明其表面羟基化比较完全。取经过蒸馏处理的苯为溶剂,配制 基金项目:国家自然科学基金,上海市纳米专项(0252nm014)。 作者简舟:白涛(1卵5一),男,山东滨州人,博士生,主要从事纳米摩擦学研究。程先华(联系人),男,教授,博 士生导师,电话(Tel):021E-ma61:xhcheng@sjtu.edu.cn。 第六届奎霸表面工租学术鲁设 兰州 2006年e月 0.5x10.3 moVE硅烷溶液。将羟基化处理的玻璃基片迅速浸入硅烷『苯溶液中并放置一定时间,取出 后分别用氯仿、丙酮、去离子水洗涤,用高浓度氮气吹干后,将其放人烘箱在120℃下热处理1h。 羟基化玻璃基片表面自组装成膜反应机理如下: SH SH l l (CH2)n (Cit2)n I H20 I 化学吸附 X--一Si·-一X 水解 I I X OH 巯基硅烷 硅醇 触角,以接触角随反应时间的变化关系来表征成膜速率。用PHI-5702型x射线光电子能谱仪(XPS)

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