微电子材料教学方案 [2].docVIP

《微电子材料》课程教学大纲 课程编号：9141114 课程类型：专业基础课 课程性质：理论课 课程学时：51 适用专业：微电子科学与工程 课程学分：2 考核方式：考查 课程定位 本课程是微电子学专业的一门专业基础课程。通过学习各类微电子材料的特性、制备工艺、实际应用的等方面的知识，使学生对制造半导体器件、集成电路所用的微电子材料用充分的了解，以便在工作中能熟练的制备和使用这些材料。 前续课程：半导体制造技术 后续课程：微电子封装技术、集成电路设计等 二、课程目标 1、知识目标 （1）掌握各类常用微电子材料的参数性能； （2）掌握各类常用微电子材料的基本制备工艺； （3）掌握各类半导体薄膜材料的制备与应用。 2、能力目标 （1）查阅微电子相关资料文献的能力； （2）熟悉常用微电子材料性能和应用； （3）熟悉各类微电子材料的制备技术。 3、素质目标 具有较强的敬业精神和质量意识； 具有科学的分析思维习惯； 具有良好的团队精神和心理素质； 具有良好的人际交往沟通能力。 三、课程设计 1、设计理念 本课程以集成电路制造领域相关材料介绍为基础，课程设计力求实用、够用、简易，注重将理论与实践相结合，并在课程教学过程中的突出细节教学和生产实践的统一，从而达到提高学生能力和素质的目的。 2、设计思路 针对课程特点，结合学生实际情况，设计了元素半导体材料、化合物半导体材料、薄膜材料等三大模块，课程内容上由浅入深，涵盖了材料性质、材料制备、材料表征及应用等知识，逐步培养学生缜密科学的思维和良好的职业素养。 四、课程内容与学时分配 序号 课程项目名称 项目单元名称 学时 1 元素半导体材料 1、硅的结构与性质 4 2、硅的粗制与纯化 4 3、生长设备 4 4、其他单晶 4 5、晶圆制备 4 2 化合物半导体材料 1、Ⅲ-Ⅴ材料性质与制备 4 2、Ⅱ-Ⅵ材料性质与制备 4 3、氧化物材料性质、制备 4 4、其他化合物材料 4 3 薄膜材料 1、薄膜材料 5 2、薄膜制备 5 3、薄膜表征 5 合计 51 五、教学设计 一、元素半导体材料 学时：20 教学目标 熟悉硅等元素半导体材料性质 熟悉元素半导体材料制备与提纯技术 熟悉晶圆制备技术 教学重点 硅、锗半导体材料 单晶的生长 晶圆制备技术 学习难点 区熔提纯技术 单晶生长理论 主要教学内容 1、硅的结构与性质 硅的物理、化学性质 2、硅的粗制与纯化 硅的化学制备、区熔提纯 3、生长设备 单晶生长设备 4、其他单晶 锗的性质、结构与制备 5、晶圆制备 硅片制备技术 教学方法建议 理论讲解、多媒体教学 备注 二、化合物半导体材料 学时：16 教学目标 熟悉各类化合物半导体的性质和结构 熟悉各类化合物半导体制备技术 熟悉化合物半导体应用情况 教学重点 化合物半导体结构与性质 化合物半导体制备技术 化合物半导体如何应用 学习难点 闪锌矿结构 主要教学内容 1、Ⅲ-Ⅴ材料性质与制备 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的特性、砷化镓单晶的生长方法、杂质控制、外延技术、其他Ⅲ-Ⅴ族化合物的制备 2、Ⅱ-Ⅵ材料性质与制备 化合物单晶材料、Ⅱ-Ⅵ族多元化合物材料、Ⅱ-Ⅵ族超晶格材料 3、氧化物材料性质、制备 氧化物材料制备、氧化物材料性质、氧化物材料应用 4、其他化合物材料 纳米晶材料、非晶态材料 教学方法建议 理论讲解、多媒体教学 备注 三、薄膜材料 学时：15 教学目标 掌握各类薄膜材料性质与应用 熟悉各类薄膜制备技术 熟悉各类薄膜的表征 教学重点 多晶硅 非晶硅 二氧化硅 金属薄膜 新型薄膜材料 学习难点 金刚石薄膜 非晶硅薄膜 主要教学内容 1、各类薄膜材料 多晶硅、非晶硅、二氧化硅、金属薄膜、新型薄膜 2、薄膜制备放法 物理气相淀积、化学气相淀积、外延、溅射、蒸发、其他技术 3、薄膜表征技术 薄膜结构表征、薄膜显微组织与形貌、薄膜组分表征 教学方法建议 理论讲解、多媒体教学 备注 六、考核评价 期末总成绩由平时成绩和期末考试成绩构成，平时成绩占总成绩的30％，期末考试成绩占总成绩的70％。平时成绩包含出勤及作业完成情况、课堂表现情况等方面 七、教材及参考书 （1）教材：《微电子材料与制程》，陈力俊编，复旦大学出版社 （2）参考书目：《微电子材料与器件制备技术》，王秀峰编，化学工业出版社