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各式扫描探针显微镜概要
掃描式探針顯微術(SPM) 組員:鄭燕宗 陳凱正 王韋蘋 目錄 掃描探針顯微術(SPM)簡介 掃描穿遂顯微術(STM) 原子力顯微術 (AFM) 橫向力顯微術(LFM) 磁力顯微術(MFM) 總結 參考資料 掃描探針顯微術(SPM)簡介 掃描探針顯微技術(SPM)具有原子級表面形狀解析度,並可檢測多種奈米級表面特性,如力學特性、磁性、電性、熱性、光特性等,許多研究學者已將掃描探針顯微技術廣為應用在奈米尺度至微米尺度的表面量測。掃描探針顯微技術(SPM)主要優點包括儀器體積小、樣品無須特殊處理,可在任何環境下進行處理等優點;其主要缺點則是掃描速度慢、資料重現率差及缺乏成份分析功能等。 掃描穿遂顯微術(STM) STM之簡介 穿遂效應 電子穿隧現象乃量子物理的重要內函之一,在古典力學中,一個處於位能較低的粒子,根本不可能躍過能量障礙到達另一邊,如下圖所示。除非粒子的動能超過Vo,才有可能。但以量子物理的觀點來看,卻有此可能性。所謂的「穿隧效應」,就是指粒子可穿過比本身總能高的能量障礙。穿隧的機率和距離有關,距離愈近,穿隧的機率愈大。當兩個電極,相距在幾個原子大小的範圍時,電子能從一極穿隧到另一極,穿隧的機率和兩極的間距成指數反比的關係。 STM之工作模式 STM之掃描模式優缺點比較 STM之應用 原子操縱術 原子力顯微鏡 (AFM) AFM之簡介 AFM全名為Atomic Force Microscopy原子力顯微鏡,其主要以量測原子間凡得瓦力為主,來得到表面原子排列的圖像,又可適用於各種的樣品,不分導體或非導體,因此消除STM對試片必須要為導體及表面必須平整的要求限制。 AFM之工作原理 利用探針與表面原子之作用力,造成懸臂樑偏移,進而得到原子影像 。 AFM之基礎架構 當以低功率雷射光打在懸臂末端上,利用一組感光二極體偵測器 ,測量雷射光反射角度的變化。當探針掃描過樣品表面時,由於反射的雷射光角度的變化,感光二極體之電流也會隨之不同,藉由量測電流的變化,可推算出懸臂被彎曲或歪斜的程度,經輸入電腦計算,可產生樣品表面三維空間的影像。 AFM掃描模式比較 AFM探針與量測結果比較 AFM之運用 (LFM)側向原子力顯微鏡 LFM之簡介 LFM全名為Lateral Force Microscopy側向原子力顯微鏡,是掃描探針顯微儀的一種,它的作用方式主要是使探針與樣品表面接觸並在表面上平移,利用探針移動時所承受樣品表面摩擦力以及樣品表面高低起伏造成懸臂的偏斜量來探知樣品的材質與表面特性。 LFM之工作原理 探針受力狀況 探針受不同表面時所發生情況 LFM量測結果 The sample is the monolayer Langmuir-Blodgett (LB) film deposited on silicon surface. It was obtained by scanning from left to right in each scan line (the fast scanning direction). The opposite fast scanning direction (from right to left) leads to inverse image. (MFM)磁力顯微鏡 MFM之簡介 MFM全名Magnetic Force Microscopy磁力顯微鏡,它是指利用磁性探針與樣品間的磁交互作用,去取得表面磁化結構的表面檢測技術。 MFM之工作原理 MFM測量模式 直流模式的掃描方式,類似於非接觸式原子力顯微鏡,差異點僅在於探針與樣本之間作用力的不同。所應用的理論,是由Zeeman能量法獲得,亦即磁力是磁矩(m)乘以磁場的空間梯度(?H),磁力的大小可由懸桿的偏移量乘以懸桿的彈性係數而得知。 MFM與一般電子顯微鏡比較 MFM/AFM圖形比較 此樣本為在Ni薄膜上放置Cu 總結 以上所介紹各式顯微鏡,近年來用以物理工程,化學、化工及生物科技等,都有相當大的幫助,因為它們都有一個共通的特性就是都能測量或者移動、固定尺寸達到奈米或者更低的尺寸,而這也是未來科技的趨勢。 參考資料 * * STM全名為Scanning Tunneling Microscopy,是在金屬探針及導電樣品間加上小電壓,並將兩者距離維持在數埃至數十埃間,使探針尖端原子團與樣品表面的量子穿隧電流保持定值,而測得表面結構形狀,具有原子解析度。 在SPM技術中具有最佳解析度,但由於無法在非導體上操作,故目前主要應用於基礎性學術研究。 掃描穿隧顯微儀之主要原理是利用金屬針尖在樣品之表面上進行掃描,根據量子穿隧效應產生穿隧電流,由於產生之穿隧電
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