单体对大气下沉积SiOx薄膜的性能研究.pdfVIP

单体对大气下沉积SiOx薄膜的性能研究 汤文杰，韩尔立，陈强木，葛袁静 (北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室， 等离子体物理与材料研究室，北京102600) 摘要：在大气压下，利用工作在16KHz的介质阻挡放电(DBD)等离子枪，以氩气为工作气体分别用四甲基 硅氧烷(TEOS)、六甲基硅氧烷(删DS0)和八甲基环四硅氧烷(D4)为单体，通过改变载气流量、等离子体放电 功率等研究聚合SiOx薄膜的结构性能影响。采用红外光谱(FTIR)分析所沉积SiOx薄膜的结构，通过接触 角测试了解其表面亲／疏水性能。 关键词：大气压；DBD：SiOx；单体 中图分类号：TB484．3 ofSiOxfilms withdifferent Investigation synthesized Precursorsat atmosphericpressure TANG Er-li,CHEN Wen-fie，HAN Qiang,GEYuan-jing Area and MaterialTechnology, (BeijingMajorLaboratoryPrintingPackaging Institute Beijing ofGraphicCommunication，Beijin9102600) Abstract：Atall filmswere DBD in atmosphericpressure，SiOxdepositedbyusing plasmagun different Arascarrierin16KHz precursors(TEOS，HMDSO，andD4)with gas highvoltagepower Theeffectsof andflowrateofcarrieronthefilm were plasmapower gas propertiesinvestigated． Thestructureof filmsWaScharacterizedwithFouriertransform the deposited infrared伊TIR)，and contactmeasurementWastakentorevealthefilm or features． angle hydrophilichydrophobic Keywords：atmospheric；dbd：siox；precursors SiOx薄膜在包装材料方面应用广泛。如真空镀铝一样，在塑料基材表面镀上一层氧化 硅膜，不仅阻隔性能优良，耐蒸煮，而且近乎无色透明特性增加产品的透明度。更主要的是 它具有良好的微波透过性能，扩大了普通包装的应用领域，对环境不会带来任何污染。此外， Si02还可以作为介质层以及晶体管闸极氧化层被应用于集成电路ll-5l。 如今，SiOx薄膜的研究、开发、制备及应用正向深度和广度推进。制备的方法已发展 到如热蒸镀，电子束蒸镀，磁控溅射，等离子体增强化学气相沉积。近来采用大气压等离子 andDhali 体聚合也不断出现161，所采用的沉积单体也在不断改进。Segers 17}用DBD的方法在 性和在大气下操作易产生爆炸的危害，使其使用受到限制。Reitz等人用HMDSO和TEOS为