薄膜物理与技术-6现代薄膜方法素材.pptVIP

聚光镜 电子枪 物镜 样品室 中间镜（多个） 投影镜 荧光屏 照相室（底片） 或数字暗室 透射电子显微镜放大原理 （1）光源-电子枪（钨丝、六硼化镧、场发射枪。 （2）透镜组—聚光镜，物镜，中间镜和投影镜。 （3）观察室及照相机 6.2 薄膜形貌/结构 （3）透射电子显微镜 (Transmission Electron Microscopy) 6 现代薄膜分析方法 一、测量原理： 1、把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子在 穿过样品的同时与样品原子碰撞而改变方向，从而产生立 体角散射；2、散射角的大小与样品的密度、厚度相关，因此可形成明暗 不同的影像；3、通常：TEM的分辨率达 0.1~0.2 nm； 放大倍数为 n×104~n×106倍。 ? 用于观察材料的精细结构，又称“亚显微结构”！ 二、与SEM的主要区别： 1、电子束照射方式不同：SEM ? 扫描式照射较大区域； TEM ? 固定照射很小区域。 2、接收方式不同：SEM ? 表层激发或散射的 e (SE、BSE)、? (X-ray)； TEM ? 电子束穿过很薄样品并与样品原子点阵交互作用后被接收！ ? TEM 的关键：电子束与样品原子点阵的相互作用 ? 携载结构/成分信息！ 三、TEM的主要工作模式： 1、影像模式：物镜光阑置于样品像平面位置 ? 透射电子束直接成像 ? 获得样品的结构、形貌信息！ 2、衍射模式：物镜光阑置于衍射斑点平面位置 ? 衍射斑点成像 ? 获得样品的晶体学、成分信息！ 6.2 薄膜形貌/结构 （3）透射电子显微镜 (Transmission Electron Microscopy) 6 现代薄膜分析方法 两种工作模式之间的转换主要依靠改变物镜光栅及透镜系统电流或成像平面位置来进行。 M最大 =M1×M2×M3×M4 （四透镜成像系统） 放大倍数：由3-4个成像透镜的不同组合完成放大倍数的变化 世界上能生产透射电镜的厂家不多，主要是欧美日的大型电子公司，德国的蔡司（Zeiss），美国的FEI（电镜部门的前身是飞利浦的电子光学公司），日本的日本电子（JEOL）、日立（Hitachi）。 选区电子衍射SAED—微米级微小区域结构特征 一、测量原理：测量物质原子间作用力！ 1、原子间距 1 nm时，原子间的 Lennard-Jones势显著化 ? 原子间产生较强相互作用力，并满足： F = -6A?r-7 + 12B?r -13 2、原子间距离? ? 原子间作用力?? ? 可由微探针受力大小换算出表面原子高度 ? 样品表面形貌 ? 获得的是原子力图像，并非真实形貌！（见课本p192） 3、核心部件：直径 10~20 nm的显微探针 + 压电驱动装置 二、主要工作模式： 1、接触式：探针与样品表面极为接近  ? 直接受很强斥力作用 ? 分辩率很高！ 2、非接触式：探针以一定频率在样品表面上方 5-10 nm处振动 ? 受表面-探针间引力作用 (F≈ -10-12 N) ? 分辩率低、但不会接触/损坏/污染样品！ 3、拍击式：振动 + 接触模式 (振幅约100 nm) ? 每次振动中接触样品表面一次 ? 兼具高分辨率和非接触式不影响样品的优点！ 6.2 薄膜形貌/结构 （4） 原子力显微镜 (Atom Force Microscopy) 原子力与原子间距的关系 6 现代薄膜分析方法 一、测量原理：利用量子力学的隧道效应测量表面形貌！ 1、利用一根非常细的钨金属探针实现测量； 2、当针尖与样品表面距离极小时，针尖原子的外层电子会通过 “隧道效应”跳到待测物体表面上形成隧道电流； 3、由于样品表面原子级微小起伏会影响隧道电流的大小，只有 不断调整针尖相对于物体表面的高度才能维持恒定的隧道电 流，针尖高度的调整轨迹即可对应待测样品的表面形貌。 二、主要特点： 1、探针直径：0.1~10 ?m； 2、针尖-样品表面距离：1 nm左右； 3、分辩率：法向 0.01 nm，切向 0.1 nm (极高！)； 4、