希夫碱在铜及氧化铜表面的自组装.pdf

第24卷专辑 中国稀土学报 2006年lO月 RARE V01．24 JOURNALOFTHECHINESEEARTHSOCIETY Oct．2006 Spec．Issue 希夫碱在铜及氧化铜表面的自组装 李德刚，于先进‘，董云会 (山东理工大学化工学院，山东淄博255049) (大于92％)，并且铜表面的CuO膜也能起到缓蚀作用。用等效电路对交流阻抗数据进行拟合的结果显示，V-bso／CuO自组装膜的缓 蚀效率要比V．bso／Cu的好，这可能是因为在V-bso／CuO自组装体系中存在内外两层膜。 关键词：Cu=CuO：白组装：希夫碱 中图分类号：0646．6文献标识码：A 文章编号：1000-4343(2006)．0361．04 近10年来，厚度从几纳米(单分子层)到几再用3次水冲洗后使用。做XPS等的测试样品是 百纳米的超薄有机膜，特别是有序的单层或多层 由同样纯度的2mnl厚的铜片制得，表面处理方法 组装膜，由于在科学和技术许多方面有潜在的应 与铜电极的处理方法一致。 用前景而引起人们的广泛兴趔1~31。关于自组装的 氧化铜表面的获得是把准备好了的铜电极或 文章大多数是研究硫醇在Au，Ag表面上的自组铜片浸入100oC的双氧水中15min，取出，用三 装【4洌，近年来也出现了研究硫醇在Cu表面自组 次蒸馏水冲洗干净备用(这样获得的铜表面CuO nm[4])。 装的文章[61，主要是研究烷基硫醇在Cu表面形成厚度约为50 的自组装单层膜对Cu的缓蚀作用。 1．2希夫碱的自组装 一般来说，含有N和S原子的有机杂环化合 把准备好的铜电极或铜片在已配置好的希夫 物可以作为铜的缓蚀剂【7，8】。希夫碱分子中除了含 h以形成自组装膜。成膜 碱的乙醇溶液中浸泡12 有．CH=N．基团外，还有两个苯环和羟基，其中的 后的样品依次用无水乙醇和3次水冲洗干净，然 N原子和氧原子具有孤对电子，而且两个苯环和 后再进行相应测试。 ．CH=N．双键形成大兀键。因此，不仅希夫碱的冗 1．3电化学测试 电子可以进入铜的空轨道，而且兀’轨道接受铜d 电化学实验是在三电极体系的电解池中进 电子而形成反馈键。希夫碱通过这种反馈键化学 行，Pt片做对电极，用饱和甘汞电极做参比电极， 吸附在铜表面上[9,101形成自组装膜。希夫碱是一种 所有电位均相对于饱和甘汞电极电位。所用电化 无污染、高效的缓蚀剂。 学仪器为IM6E(ZAHNER，电化学测试系统，德 国)。电化学阻抗谱(EIS)的测试是选择振幅为5 l实验 mV的正弦微扰信号，在0．02Hz～60kHz的频率 1．1试剂及样品处理 范围内从高频向低频扫描。所有电化学阻抗谱测 实验所需药品皆为分析纯，用三次蒸馏水配 试均在腐蚀电位下进行。所得数据用交流阻抗拟 成所需浓度。 合软件EQUIVCRT进行分析处理，拟合等效电路。 实验所用的Cu电极是由纯度大于99．9％的铜 1．4 x．射线光电子能谱(xPS)的测试 棒(直径为5．8mm)制得。将铜电极用环