用磁控溅射方法制备超疏水氧化锌薄膜.pdfVIP

中国科协第四届优秀博士生学术年会论文集 用磁控溅射方法制备超疏水氧化锌薄膜幸 李国星 宋雪梅黄跃曹伟 刘毅王波+严辉 北京工业大学薄膜实验室，北京，100022 摘要 本文通过磁控溅射的方法，在高阻单晶硅(100)表面制备出的氧化锌薄膜。通过改变溅射 功率制备的纳微阶层结构氧化锌薄膜最大接触角为158。。比平滑的氧化锌薄膜接触角109。有 了较大的提高。并且通过扫描电镜和X衍射仪对薄膜表面微观结构和结构性能分别进行了表 征。 通过调节不同溅射功率制备的超疏水氧化锌薄膜具有众多卓越性能将会有许多潜在的 应用前景。 关键词 浸润性；超疏水；氧化锌薄膜；接触角 引 言 浸润性是固体表面的重要特征之一，它是由表面的化学组成和微观几何结构共同决定Il J。WangTM等利 用紫外光诱导产生的接触角接近0。的超亲水Ti02表面，水在表面能够完全铺展，他们认为这种薄膜表面 的独特性质是由于紫外光诱导产生尺寸为几十纳米的亲油相和亲水相组成的微观结构。这种表面材料已经 成功地被用作防水及自清洁的透明涂层。最近，科研工作者成功地制备出许多具有纳米结构的聚合体p∞J。 随着微流器件的发展，一些要求高的传导率【6】等性质的器件需要同时具有超疏水性能。在多种性能协同这 一点上，无机表面有着较大优势，在获得所需特殊浸润性的同时，也较容易同时实现优良的光、电、力学 和热稳定性等协同性质；而有机化合物由于其较差的热稳定性和机械性能，较难满足相关领域的应用¨J。 ZnO是一种II一Ⅳ族宽禁带半导体材料。具有优异的晶格、光电、压电及介电特性，无毒性，原料廉价易 得。ZnO薄膜所具有的这些优异特性，使其在诸多领域得到了较为广泛和有效的应用。ZnO晶体为六方纤 ZnO薄膜天然存在着锌间隙与氧空位【101，为极性半导体，呈n型。优质的ZnO薄膜具有c轴择优生长方向。 平滑的ZnO表面与水的接触角为109。，显示了疏水的性质，并且有望通过控制表面的微观结构实现超疏 水性能，这将使其在微流器件与光电器件集成于一体的芯片技术方面具有重要的应用前景。本文采用磁控溅 射技术沉积制备了氧化锌薄膜，并通过改变溅射功率的方法来改变薄膜表面微观形貌，研究了ZnO薄膜的 表面微观形貌、晶体取向、接触角(CA)以及光学特性等因素。 1 试 验 膜前，将衬底分别经过甲苯、丙酮和乙醇的超声波清洗。溅射靶材是纯度为99％，直径为50mm的锌靶。 湿性能，并分别利用扫描电镜与X衍射仪和紫外分光光度计得N-f薄膜的表面形貌、薄膜结构方面和薄膜 ‘基金资助：北京自然科学基鲁r(No．2062004)和国家自然科学基金(NoNo 810 材料科学 的光学信息。 2结果与分析 2．1溅射功率对氯化锌薄膜形貌的影响 实验表明藏射功率在氧化锌薄膜的沉积过程中对薄膜的微观结构有很大嚣响。图1为不同功率条件F 氧化锌薄膜的扫描电镜照片。沉积时．衬底温度控制在200T2。随着功率的变化．薄膜表面从光滑平坦的 较小IjI糙度表而过渡到种较大粗糙度的复杂表面。与溅射功率为500W时，如图1A所示样品的表面争 现了一种平滑的微观形貌．接触角为110。，随着溅射功率的降低．薄膜的表面有平滑逐渐变成较为粗糙。 当溅射功率降为100W时，如图1E所示．样品的表面出现多K度单元构成的微观结构，一些较小尺度(约 l岬尺度)的颗粒组成了较大尺度(约10ttm)的突起，其接触角达到1586。图ID为溉射功率是200W 时的样品表面，由些球状的突起结构组成，接触角为1246。而功率升到300w时，接触角的140。， ■■●●●■■■●■■■_■■■■|■口■■■目■● A B ■■●■■●■■■■■●皇皇—■■●■■■■目■口■_ C D 基