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第30卷第1期 2009年1月 工程热物理学报 JOURNAL OF ENGINEERING THERMOPHYSICS V01．30．No．1 Jan．．2009 光热反射技术测量表面下微尺度热结构 布文峰1 郑兴华1 唐大伟1 章 琪2 (1．中国科学院工程热物理研究所， 北京 100190； 2．克莱门特捷联制冷设备(上海)有限公司，北京 100176) 摘要采用周期半导体激光为加热源，连续半导体激光为探测光，光学显微镜物镜聚光，应用稳态的光热反射探测技术 得到相应于表面温度响应的周期反射信号，建立一套5—10微米分辨率的实验室用测试系统．利用光刻的形式，制作了掩 埋在金属表面下si基体中的Si02的图形，分别使用不同频率对其进行一维扫描，在合适的频率下得到被埋藏物的信息， 实现微米量级简单结构复合试样的热结构测量． 关键词光热反射技术；微尺度热结构；表面下 中图分类号t TKl24 文献标识码t A 文章编号；0253．231x(2009)01_0118_03 MEASUREMENT UNDER SURFACE MICRO SCALE HEj如[’STRUCTURE BY PHoTo THERMoREFLECTANCE TECHNIQUE BU Wbn—Fen91 ZHENG Xing—Hual TANG Da-W越1 ZHANG Qi2 (1．Instjtute 0fEngjn唧jng ThermopJ磅rsjcs，CAs，B刨jng 100190，Chjna； 2．伽ma咖eta cha亡unjon R出fg即8tjon Equjpmen亡惭a119h圳c0．，Ltd．，B鲫jng 100176，ch抽a) Abstract By u8ing period semiconductor 1aser as source of heat，continuum 8emiconductor 1a8er as detect 1aser and applying steady photo thermoreflectance technique to get period reflect signal respond surf如e temperature，a set of 5～10 micron res01ution testing system used in 1aboratory is set up in thi8 paper．A pattern of Si02 burying under metal surface is photoetched in the base of Si．The information of the eInbed substance can be gotten under appropriate f士equency through one—dimension 8canning the sample under deferent＆e(1uency． It can measure the simple structure coInplex sample in micro sc“e． Keywords photo thermoreflectance technique；micro 8cale heat structure；under surface 0引言 随着微电子机械系统技术和半导体器件的发 展，半导体材料的热学性质受到人们越来越多的重 视，对其进行表面和表面下，如微细结构复合材料的 内部粒子分布状态及粒子、界面等的热物性分布、 各层结构的厚度、表面镀膜的密实状态及接触热阻 及半导体等内部微裂纹状况方面的定量分析和预测 将直接影响半导体器件的热设计、热管理。实验研 究是必不可少的手段，为微电子及材料领域提供先 进的检测手段，同时也将促进微纳米尺度传热学及 其测量技术等新领域的研究【11。 本文采用周期半导体激光为加热源，连续半导 体激光为探测光，光学显微镜物镜聚光，应用稳态 光热反射探测技术得到相应于表面温度响应的周期 反射信号，建立一套5—10微米分辨率的实验室用测 试系统。使用微米尺度x—y扫描平台，对试样表 面进行一维扫描，实现微米量级尺度简单热结构复 合试样的结构测量． 1测量原理和实验装置 测量原理[2]：周期加热激光加热试样，能量被 试样表面吸收，引起温度的周期变化，连续激光作 为探测光照射该表面，光电探测器探测其反射光能 量，反应试样表面的反射系数的变化情况，将反射 信号与加热信号进行比较得到两者的位相差及振幅 比，此问题逆解析就可以得到加热表面或加热表面 收稿日期t 2008．01-09；修订日期·2008-11—12 基金项目t国家自然科学基金资助项目(No 作者简