ResearchProgressofOhmicContactsforp-TypeSiC.pdfVIP

  1. 1、本文档共13页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
ResearchProgressofOhmicContactsforp-TypeSiC

Smart Grid 智能电网, 2016, 6(2), 116-128 Published Online April 2016 in Hans. /journal/sg /10.12677/sg.2016.62013 文章引用: 裴紫微, 张静. p型 SiC欧姆接触的研究进展[J]. 智能电网, 2016, 6(2): 116-128. /10.12677/sg.2016.62013 Research Progress of Ohmic Contacts for p-Type SiC Ziwei Pei, Jing Zhang Department of Microelectronics, North China University of Technology, Beijing Received: Apr. 2nd, 2016; accepted: Apr. 17th, 2016; published: Apr. 20th, 2016 Copyright ? 2016 by authors and Hans Publishers Inc. This work is licensed under the Creative Commons Attribution International License (CC BY). /licenses/by/4.0/ Abstract Ohmic contact is one of the technical difficulties in the study of the new generation power elec- tronic devices of SiC. In addition to the metal selection, compared to n-type doping, the ionization energy of p-type SiC is much higher. The superior quality of p-type SiC ohmic contact is more diffi- cult to form. In this paper, it is summarized that ohmic contacts for Al-base traditional materials and non Al-base traditional metal materials made on p-type SiC, and discussed for its development prospects. Keywords p-Type SiC, Power Electronic Devices, Ohmic Contact p型SiC欧姆接触的研究进展 裴紫微,张 静 北方工业大学微电子学系,北京 收稿日期:2016年4月2日;录用日期:2016年4月17日;发布日期:2016年4月20日 摘 要 欧姆接触是碳化硅(Silicon Carbide, SiC)新一代电力电子器件研究中的技术难点之一。除了金属选择外, 裴紫微,张静 117 相对于n型掺杂,SiC材料中p型杂质的离化能比n型杂质的离化能高,优质的p型SiC欧姆接触更难于形成。 该文对近十几年来极具代表性的传统Al基金属体系和非传统Al基金属体系在p型SiC材料上形成欧姆接触 的研究进行了总结,并对其发展前景进行了展望。 关键词 p型SiC,电力电子器件,欧姆接触 1. 引言 SiC 电力电子器件主要包括功率整流器(SBD、PiN 和 JBS 等)、单极型功率晶体管(MOSFET、JFET 和 SIT等)和双极型载流子功率晶体管(BJT、IGBT和 GTO等)。其中极具代表的 SiC PiN、SiC MOSFET 和 SiC BJT等器件,均需要形成良好的 p型欧姆接触。经过大量的研究工作,SiC欧姆接触问题目前主要 集中在两个技术点上:一是大剂量的离子注入,这能显著地增加 SiC 的载流子密度,并减少它的耗尽层 宽度,形成隧穿;这种方法的关键问题是:在离子注入过程中容易形成晶格缺陷或非晶状态,这些缺陷 是非常顽固的,需经过大约 2000K的极高温退火来复原,从而使制造 SiC器件复杂化[1];二是通过淀积 金属和退火技术,产生一种具有较窄带隙或高载流子密度的中间层。为形成这种层,大范围的材料可供 选择,包括金属化物、硅化物、碳化物、氮化物和石墨等等[2]。实际欧姆工艺制备是在综合以上两个技 术点的情况下完成的。 2. p型 SiC欧姆

文档评论(0)

***** + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档