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ResearchProgressofOhmicContactsforp-TypeSiC
Smart Grid 智能电网, 2016, 6(2), 116-128
Published Online April 2016 in Hans. /journal/sg
/10.12677/sg.2016.62013
文章引用: 裴紫微, 张静. p型 SiC欧姆接触的研究进展[J]. 智能电网, 2016, 6(2): 116-128.
/10.12677/sg.2016.62013
Research Progress of Ohmic Contacts for
p-Type SiC
Ziwei Pei, Jing Zhang
Department of Microelectronics, North China University of Technology, Beijing
Received: Apr. 2nd, 2016; accepted: Apr. 17th, 2016; published: Apr. 20th, 2016
Copyright ? 2016 by authors and Hans Publishers Inc.
This work is licensed under the Creative Commons Attribution International License (CC BY).
/licenses/by/4.0/
Abstract
Ohmic contact is one of the technical difficulties in the study of the new generation power elec-
tronic devices of SiC. In addition to the metal selection, compared to n-type doping, the ionization
energy of p-type SiC is much higher. The superior quality of p-type SiC ohmic contact is more diffi-
cult to form. In this paper, it is summarized that ohmic contacts for Al-base traditional materials
and non Al-base traditional metal materials made on p-type SiC, and discussed for its development
prospects.
Keywords
p-Type SiC, Power Electronic Devices, Ohmic Contact
p型SiC欧姆接触的研究进展
裴紫微,张 静
北方工业大学微电子学系,北京
收稿日期:2016年4月2日;录用日期:2016年4月17日;发布日期:2016年4月20日
摘 要
欧姆接触是碳化硅(Silicon Carbide, SiC)新一代电力电子器件研究中的技术难点之一。除了金属选择外,
裴紫微,张静
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相对于n型掺杂,SiC材料中p型杂质的离化能比n型杂质的离化能高,优质的p型SiC欧姆接触更难于形成。
该文对近十几年来极具代表性的传统Al基金属体系和非传统Al基金属体系在p型SiC材料上形成欧姆接触
的研究进行了总结,并对其发展前景进行了展望。
关键词
p型SiC,电力电子器件,欧姆接触
1. 引言
SiC 电力电子器件主要包括功率整流器(SBD、PiN 和 JBS 等)、单极型功率晶体管(MOSFET、JFET
和 SIT等)和双极型载流子功率晶体管(BJT、IGBT和 GTO等)。其中极具代表的 SiC PiN、SiC MOSFET
和 SiC BJT等器件,均需要形成良好的 p型欧姆接触。经过大量的研究工作,SiC欧姆接触问题目前主要
集中在两个技术点上:一是大剂量的离子注入,这能显著地增加 SiC 的载流子密度,并减少它的耗尽层
宽度,形成隧穿;这种方法的关键问题是:在离子注入过程中容易形成晶格缺陷或非晶状态,这些缺陷
是非常顽固的,需经过大约 2000K的极高温退火来复原,从而使制造 SiC器件复杂化[1];二是通过淀积
金属和退火技术,产生一种具有较窄带隙或高载流子密度的中间层。为形成这种层,大范围的材料可供
选择,包括金属化物、硅化物、碳化物、氮化物和石墨等等[2]。实际欧姆工艺制备是在综合以上两个技
术点的情况下完成的。
2. p型 SiC欧姆
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