第一章薄膜制备的真空技术基础选编.ppt

第一章 薄膜制备的真空技术基础 大部分的现代薄膜材料制备都是在真空或是较低的气压下进行的，都涉及到气相的产生、输运以及反应的过程。 因此，这一章中，我们先对有关气体的基本性质进行简要的回顾，然后对最常用的真空技术的基础知识进行简单的介绍。 第一章 薄膜制备的真空技术基础 1.1气体分子运动论的基本概念 1.2真空的基本概念 1.3 各类真空泵简介 1.4 真空测量技术 1.5 几种典型真空系统的建立 1.1 气体分子运动论的基本概念 1. 描述气体分子状态的宏观物理量-P、T、V 理想气体：气体分子之间除了相互碰撞的瞬间外，完全不存在相互作用。 一般的温度和压力条件下，所有的气体都可以被看作是理想气体。 真空技术中研究气体时，一般可以应用理想气体状态方程。 1.1 气体分子运动论的基本概念 1. 描述气体分子状态的宏观物理量-P、T、V （1） 理想气体状态方程： P：压强（Pa）；m：气体质量（Kg）；V：体积（m3）；R：普适气体常数 =8.314J.mol-1K-1 ：T：绝对温度（K） 讨论： 　 对于一定质量的气体，当气体温度一定时，PV = K（与温度有关的常数），此即波义耳-马略特定律（机械泵的理论基础）。 1.1 气体分子运动论的基本概念 1. 描述气体分子状态的宏观物理量-P、T、V （2） 阿伏加德罗定律：（理想气体状态方程的第二种表达方式） n为气体分子密度（1/m3）；波尔兹蔓常数k=R/NA=1.38 ? 10-23JK-1； NA为阿伏加德罗常数，6.023?1023mol-1 表明在相同压强和温度下，各种气体单位体积含分子数相同（与气体种类无关）。 在标准状态下，任何气体的分子密度为3?1019个/m3 1.1 气体分子运动论的基本概念 1. 描述气体分子状态的宏观物理量-P、T、V （2） 阿伏加德罗定律：（理想气体状态方程的第二种表达方式） 推导： 若气体由N个分子组成，每个分子的质量为M，则m=MN。而1mol气体中的分子数NA=6.023?1023，将Mmol=MNA代入理想气体状态方程，则推出阿伏伽德罗定律。 1.1 气体分子运动论的基本概念 2 气体分子运动速度及其分布 (Maxwell分布） 真空容器中气体分子运动是混乱的。气体分子进行无规则热运动的每一时刻，每个分子的运动速率有偶然性，然而，对于大量气体分子而言，其速率分布遵循统计规律。 1.1 气体分子运动论的基本概念 2 气体分子运动速度及其分布 (Maxwell分布） f(v)速率分布函数（表明气体分子的速度分布只取决于分子的相对原子质量M与热力学温度T的比值），M-分子的摩尔质量，T为热力学温度，R为普适气体常数。 f(v)dv=dN/N为速率位于v-(v+dv)区间的相对分子数或分子处于v-(v+dv)间的几率。或者f(v)dv表示在速率附近，dv速率间隔内的分子数占总分子数的比率。 dN = Nf(v)dv 设有N个气体分子的理想气体，在平衡状态速率处在v-(v+dv)之间 的分子数： 1.1 气体分子运动论的基本概念 2 气体分子运动速度及其分布 (Maxwell分布） f(v)速率分布函数，M-分子的摩尔质量，T为热力学温度，R为普适气体常数。 物理意义： dN = Nf(v)dv 设有N个气体分子的理想气体，在平衡状态速率处在v-(v+dv)之间 的分子数： 1.1 气体分子运动论的基本概念 2 气体分子运动速度及其分布 (Maxwell分布） 为了更深入地理解速率分布函数所表达的意义，以下图H2和N2分子为例，对其速率分布进行了定量描述。 1.1 气体分子运动论的基本概念 2 气体分子运动速度及其分布 (Maxwell分布） 图中表示，总分子数为107个、速率间隔dv为1cm/s时，在不同速率范围的分子数。例如，0 ℃的N2分子，v处于1000-1000.01m/s范围内的分子数大约为9个。