硕士学位论文答辩解说.pptx

华北电力大学硕士学位论文答辩 导 师： 答辩人： 2015年3月10日 高端塑料模具钢S136表面CMP精细加工工艺研究 专 业：材料学 论文提纲 研究背景、研究内容 1 具体实验方案路线 CMP材料去除机制 全文结论及后续工作 5 最佳工艺参数的提出 5 对最佳工艺参数的验证分析 研究背景 模具型腔粗糙度 器件美观程度 模具使用寿命 成型器件性能 生产效率 抛光 当前抛光方法 电化学抛光 超声波抛光 超声电解 复合抛光 磁流变抛光 局限性 化学机械抛光 评价指标 均方根粗糙度：RMS 材料去除速率：MRR 实验材料 S136钢 研究内容 ●简要介绍高端塑料模具钢的性能和应用，阐述化学机械抛光（Chemical mechanical polishing）的发展，以高端塑料模具钢S136钢为例探讨CMP工艺的应用； ●以单因素变量法先大致确定CMP参数下压力、转速、磨料种类、抛光液PH值的分布水平，再通过正交实验设计，提出使S136表面粗糙度达到超光滑的工艺参数，并对提出参数以RMS、MRR为评价指标，通过XRD、SEM、AFM分析验证； ●提出S136钢CMP过程材料去除机制和化学反应机理，对抛光所产生的表面缺陷进行分析。 具体实验方案路线 工艺参数对CMP性能的影响 单因素变量分析 1.抛光液PH值对CMP性能的影响 酸性抛光液体系下RMS、MRR与PH的关系 工艺参数对CMP性能的影响 单因素变量分析 碱性抛光液体系下RMS、MRR与PH的关系 工艺参数对CMP性能的影响 单因素变量分析 2.转速对CMP性能的影响 工艺参数对CMP性能的影响 单因素变量分析 3.压力对CMP性能的影响 工艺参数对CMP性能的影响 单因素变量分析 4.磨料种类对CMP性能的影响 工艺参数对CMP性能的影响 正交实验方案设计 ●.正交试验方案设计：对于多因素多水平的实验，若采取各个参数均取遍的方法，实验次数将非常多，实现起来及其困难。假如不全部取遍，那如何来保证所取得的数据具有普遍代表性。那么到底如何做？————正交实验方案设计。 优点： 所取数据在具有普遍代表性的基础上能大大较少实验次数正交表的设计本身考虑到了个参量之间的组合方式。例如对6因素6水平的实验，用单因素法需要66次实验，而正交实验只需要64次。 正交实验能分析各因素对实验结果的影响程度 工艺参数对CMP性能的影响 正交实验方案设计 工艺参数对CMP性能的影响 正交实验方案设计 最佳工艺参数分析 1.以RMS为评价指标，RMS越小越好，由表中RMS数据可知： (1) 固定其它参数，只改变转速，当转速在A2水平，抛光效果最佳； (2) 固定其它参数，只改变下压力，当下压力在B2水平，抛光效果最佳； (3) 固定其它参数，只改变PH值，当PH值在C1水平，抛光效果效果最佳； (4) 固定其它参数，只改变磨料种类，当磨料种类为D2时，抛光效果最佳。 所以，从材料表面粗糙度角度来讲，在A2B2C1D2工艺参数组合下，也就是抛光转速100r/min、压力3.5psi、酸性抛光液体系PH为4，磨料种类为SiO2时，对于S136钢CMP,其抛光性能最好。 工艺参数对CMP性能的影响 正交实验方案设计 最佳工艺参数结果分析 1.以MRR评价指标，MRR越小越好，同理由表中数据可知，在A2B3C1D1工艺参数组合下，也就是转速100r/min、压力4.5psi、酸性抛光液体系PH为4、以Al2O3为磨料，材料去除速率最大，抛光效率最高。 2.在A2B2C1D2与A2B3C1D1工艺参数组个中，只有压力和磨料种类水平不同，由表中数据可知，在B2与B3水平以及D1与D2水平下，材料去除速率相差不大，在优先考虑表面粗糙度指标的要求下，A2B2C1D2为最佳工艺参数组合。 工艺参数对CMP性能的影响 正交实验方案设计 各因素影响程度大小分析 1.对表面粗糙度的影响：磨料种类影响最显著，PH值影响程度次之，然后是下压力，转速，即各因素影响主次关系为：磨料种类＞PH值＞下压力＞转速。 2.对材料去除速率的影响：下压力＞PH值＞转速＞磨粒种类，需