第四章 电子探针微区分析的定性
4.1 定性分析的特点
不仅可以得到被分析区域有什么?
同时可以得出元素在一定区域是如何分布的?
4.2 在扫描电镜中X射线能谱微区分析的虚假因素
虚假因素来自三个方面:
X射线探测过程
信号处理过程
样品周围环境
1. 检测过程中出现的虚假因素
(1) 硅逃逸峰 (Escape peak )
从Si(Li) 探测器探测X射线过程来看硅逃逸峰的产生; 光电吸收
SiK空位 光电子
SiK?X光子 俄歇电子
(ESi=1.73KeV)
逃出探测器 被Si吸收产生光电子 产生电子空穴对
; 例:
MnK?=5.890KeV
MnKesca=5.89-1.73=4.16KeV
; (2) 吸收边
Si(li
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