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集成电路工艺之
光刻
1、基本描述和过程
光刻 2、光刻胶
3、光刻机
4、光源
5、光刻工艺
6、新技术简介
IC 工艺流程
IC 制造
Materials IC Fab
Dielectric Test
Metallization CMP
deposition e-Beam or Photo
Ion Implant
Wafers Mask or
Packaging EDA PR Chip
Thermal Implant Etch Reticle Etch
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