聚合物太阳电池制备技术概览.pptx

聚合物太阳电池制备技术;内容提要;聚合物太阳电池实验室制备技术;器件制备基本流程;ITO刻蚀;湿法刻蚀ITO;基片清洗;表面处理;电极修饰层制备;活性层制备;金属电极制备;2.聚合物太阳电池工业制备技术;聚合物太阳电池演示器件;各子电池间的连接;刮刀涂布（Doctor blading ）;涂布的湿膜的厚度通常是间隙宽度的一半，但是可能因基片的表面能、涂料溶液的表面张力和涂料溶液的粘度而发生变化。膜厚度取决于刀片后沿与湿膜之间的半月形结构，还与剪力场有关（和刀片的移动速度成比例）。;丝网印刷（Screen printing ）;丝网印刷得到的湿膜厚度可以通过丝网的理论体积Vscreen经验公式得到。简言之，Vscreen就是丝线和乳胶厚度之间的体积，是丝网上可以涂墨水区域的单位面积上的体积（cm3·m-2）。由于诸多限制因素，并不是所有材料都适合丝网印刷。影响薄膜厚度的因素包括刮刀在丝网上推进的力量、离网距离、刮刀的速度和溶液的粘度等。最终的干膜厚度d与Vscreen和kp等的关系：;丝网印刷术是当前广泛用于工业生产的印刷技术，也是大面积制备染料敏化太阳电池的常用制备技术。丝网印刷术能够规模化生产，它与卷对卷高度兼容。卷筒丝网印刷术是与卷对卷技术相适应的技术，在卷筒丝网印刷中，刮刀置于圆柱状的丝网内部。下图为典型的卷筒丝网印刷系统，包括开卷机、导边器、电晕处理、软板清洗、印刷、UV处理、垂直干燥炉和回卷机。;喷墨印刷（Ink jet printing ）;喷墨打印得到的干膜的厚度由单位面积上液滴的数量，单个小液滴的体积，材料的浓度来决定：;移印（Pad printing ）;移印技术得到的干膜的膜厚由单位面积上凹版中所含墨水的体积Vg，移除比率KP和墨水中材料的浓度c来决定;卷对卷工艺（Roll-to-roll techniques ）;a）分解式加工和（b）集成式卷对卷加工三层电池示意图;适合实验室规模的卷对卷系统如下图所示，包括开卷机、涂布装置、风干机和卷绕机。卷对卷印刷质量与印刷和涂布机械以及工艺条件有密切关系，如基底速度和张力的控制，基底的清洁，静电的去除（尤其是塑料基底），表面处理，红外加热，热空气干燥，UV处理和基底的冷却。;简单的涂敷系统，???中，灰色部分是涂布辊和涂布单元，软板是细线，涂布材料是虚线。;边缘刀涂布和半月板涂布（Knife-over-edge coating and meniscus coating ）;边缘刀涂布是一种零维的涂布技术，这项技术被用于表面均匀平坦的基底。边缘的精度由刮刀与基片之间的间隙以及柔性基板的移动速度来决定。当柔性基板移动缓慢并且刮刀与滚筒纸距离很短时，油墨将沿着刮刀展开，最后涂布宽度为整个刀的长度。;狭缝涂布（Slot die coating ）;狭缝技术的操作过程简单可靠，但与边缘刀涂布相比，其涂布头比较复杂。下图展示了一个拆开的狭缝涂布头，几个部件由垫圈装配而成，能够支撑涂布过程中的墨水压力。最重要的部件是模板，它能分隔狭缝并控制分散的墨水通过单个的狭缝。可以看出，图案化的模具是由9mm宽，间隔3mm的1、2、3和8竖条组成。涂布头和模具是不锈钢材料，模具的厚度一般是10到100微米。;理想的湿膜厚度能够通过滚筒纸的速度和涂布头液体的供给速度来控制。对于给定的滚筒纸和墨水供给速度、涂布宽度和干膜中固体的密度，干膜的膜厚与它们的关系如下：;凹版涂布（ Gravure coating ）;涂布辊部分插入墨浴中以便能够不断的得到补充。在涂布辊与滚筒纸接触之前，多余的墨水被去掉。支撑辊通常被涂上一层硬橡胶涂层，以便能够更好的与凹印胶辊接触。与凹版接触的墨水被转移到基片上产生所需的图案。但是凹版印刷技术制作不同的图案要更换不同的辊，这个成本比较高。;幕帘、多层狭缝和滑动涂布技术（Curtain, multilayer slot and slide coating） ;成膜技术的比较