选修材料分析x射线试卷.docVIP

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材料现代分析方法试题7(参考答案) ? 一、基本概念题(共10题,每题5分) 1.欲用Mo靶X射线管激发Cu的荧光X射线辐射,所需施加的最低管电压是多少?激发出的荧光辐射的波长是多少? 答:欲使Cu样品产生荧光X射线辐射, V =1240/λCu=1240/0.15418=8042,V =1240/λCu=1240/0.1392218=8907 ? ? 激发出荧光辐射的波长是0.15418nm 激发出荧光辐射的波长是0.15418nm ? 2.判别下列哪些晶面属于[11]晶带:(0),(1),(231),(211),(01),(13),(12),(12),(01),(212)。 答:(0)(1)、(211)、(12)、(01)、(01)晶面属于[11]晶带,因为它们符合晶带定律:hu+kv+lw=0。答:(0)(1)、(211)、(12)、(01)、(01)晶面属于[11]晶带,因为它们符合晶带定律:hu+kv+lw=0。 3.用单色X射线照射圆柱多晶体试样,其衍射线在空间将形成什么图案?为摄取德拜图相,应当采用什么样的底片去记录? 答:用单色X射线照射圆柱多晶体试样,其衍射线在空间将形成一组锥心角不等的圆锥组成的图案;为摄取德拜图相,应当采用带状的照相底片去记录。 4.洛伦兹因数是表示什么对衍射强度的影响?其表达式是综合了哪几方面考虑而得出的? 答:洛伦兹因数是表示掠射角对衍射强度的影响。洛伦兹因数表达式是综合了样品中参与衍射的晶粒大小,晶粒的数目和衍射线位置对衍射强度的影响。 5.给出简单立方、面心立方、体心立方以及密排六方晶体结构电子衍射发生消光的晶面指数规律。 6.透射电镜的成像系统的主要构成及特点是什么?(p144) 答:透射电镜的成像系统由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成。各部件的特点如下: 1)f=1-3mm),放大倍数100—300倍。 作用:形成第一幅放大像 2)20—120um,无磁金属制成。 作用:a.提高像衬度,b.减小孔经角,从而减小像差。c.进行暗场成像 3)20-400um, 作用:对样品进行微区衍射分析。 4)0-20倍) a.控制电镜总放大倍数。b.成像/衍射模式选择。 5) 小孔径角有两个特点: a.景深大,改变中间镜放大倍数,使总倍数变化大,也不影响图象清晰度。 b.焦长深,放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。 7.说明多晶、单晶及非晶衍射花样的特征及形成原理。 答:单晶衍射的特点: 1)电子束方向B近似平行于晶带轴[uvw],因为θ很小,即入射束近似平行于衍射晶面, 2)反射球很大,θ很小,在0*附近反射球近似为平面。 3)倒易点阵的扩展。(因为使用薄晶体样品) 因此,不难看出,单晶电子衍射花样就是(uvw)*0零层倒易截面的放大像。 成像原理图和单晶电子衍射花样见下图。 ? 电子束照射多晶、纳米晶体时,衍射成像原理与多晶X射线衍射相似,如图 多晶的衍射花样为:各衍射圆锥与垂直入射束方向的荧光屏或照相底片的相交线,为一系列同心圆环。 8.试述用合成电子衍射图法如何确定两相间的取向关系? 答:用合成电子衍射图法确定两相间的取向关系的步骤如下: (1)从合成的电子衍射图中分离出两套衍射斑点,分别标定两套衍射斑点指数,并确定晶带轴指数〔uvw〕A和[u/v/w/]B (2)找出互相平行的两相的矢量RA和RB,指数分别为(hkl)A和(h/k/l/)B。 (3)可以确定两相的取向关系为(hkl)A//(h/k/l/)B ?????????????????????????????? [uvw]A//[u/v/w/]B 9.解释红外光谱图的一般程序是什么? 答:运用红外光谱解谱的四要素,分析吸收峰对应的基团;若是单纯物质可对照SADLTER标准图谱;还可从数据库查相应发表文献的红外光谱信息。 10.红外光谱的近期发展有哪些? 答:付立叶红外及差谱技术,红外二向色性,二维相关红外,动态红外光谱和表面红外技术等。 11. 晶面指数的确定方法(p22) 1)量出待定晶面在三个晶轴的截距,并用点阵周期a, b, c度量它们。 2)取三个截距系数的倒数 3)将三个倒数分别乘分母的最小公倍数,把它约简化为最简的整数,并用圆括号(h k l)表示。 二、综合及分析题(共5题,每题10分) 1.讨论下列各组概念中二者之间的关系: 1)同一物质的吸收谱和发射谱; 答:λk吸收 〈λkβ发射〈λkα发射 2)X射线管靶材的发射谱与其配用的滤波片的吸收谱。 答:λkβ发射(靶)〈λk吸收(滤波片)〈λkα发射(靶)。任何材料对X射线的吸收都有一个Kα线和Kβ线。如 Ni 的吸收限为0.14869 nm。也就是说它对0.14869nm波长及稍短波长的X射线有强烈的吸收。而对比0.14869稍

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