原创力文档- 1、本文档共40页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
曝光机技术讲解
Text C;曝光过程简介
曝光Recipe详细项目
曝光工艺要素;曝光过程简介;曝光过程简介;曝光过程简介;曝光过程简介;椭圆 Mirror
:对Lamp的光进行集光;UV Lamp管理;用Border Shutter控制露光Area
用Border Shutter减小Gray Zone;Photo Initiator;曝光 Recipe 详细项目;曝光 Recipe 详细项目;;(6)光学 检出;1) 17” model的 曝光 Offset ;TP是表示Glass基板内Cell 的配置的特性值.
-与 TFT基板 Assay时 Cell 位置要一致.
- Cell 位置偏离时 有光 Leak 不良 Issue发生.;Total pitch是由 Photo Mask和基板膨胀差异产生的，在BM曝光机里要补正total pitch和歪曲，使之与品质规格一致。;时间;;;从Glass Edge到 BM 边缘的距离, 从Glass上面 可看到整个Shot 的模样.
- 位置精度偏离可能引起与TFT 基板 Assay 时 Cell位置发生偏离的现象.
- 各号机间发生200um 以上的差异时 在BGR, PS 曝光机中 Alignment Error 多发,
各号机间偏差较???时会发生BGR Miss Align.;; BM CD作用为区隔BGR之间的领域– 光不透过的领域
- BM 领域 ( CD )宽度 会影响到色度 (Chromaticity)因此 设计产品时应考虑到此问题.
BM CD 领域的大小可能会引起BGR Overlay 及 光Leak不良的发生. ;一般比起Gap，更多的是调整曝光量，使BM, RGB 所有值均与设定值一致。考虑到Tact time在调整曝光量后，通过变更显影时间来调整线幅。;Resist;Resist;; ;通过stage offset调整, 修正Overlay;;1) 曝光机的光谱;3) 波长 vs. PS 高度;4) 显影后 PS 形象;;;;EXP Gap---size;;;波长(nm)
文档评论（0）