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AKT_SPUTTER_SIO2镀膜特性简介
AKT SPUTTER
SIO2 鍍膜介紹;前言;POWER：
一般業界濺鍍SiO2，Power多數是使用RF 居多(Radio-Frequency)[高頻] 而 AKT 使用的Power稱為MF ( Medium-Frequency )[中頻]
而RF 與 MF 和 DC之間的差異性，詳下表：;控制方式分以下三種進行鍍膜：;2. U-control (定電壓控制)：
參數設定後，Generator輸出固定電壓值，隨著反應氣體的變化會改變輸
出功率。此控制方式在本Case裡是用於生產時使用.;SiO2特性~遲滯曲線的製作：
P-control 模式下，設定功率10 KW
O2 Flow由0慢慢提升，記錄其電壓值，直到呈現飽和狀即可，可繪出下圖
;SiO2鍍膜特性條件 — 遲滯曲線;SiO2鍍膜特性條件 — 遲滯曲線製作;SiO2鍍膜特性調整介紹;補充資料：;
END
Thanks for your attention;AKT SiO2 探討;(一)PM 後 particle 數(arcing) 反而增加;圓柱靶旋轉方向;(二)黑條紋改善及高 power使用
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