材料方法复习技巧.pptx

第三部分 结构分析 X-射线结构分析 电子衍射结构分析 1 X—射线的本质 是一种波长很短的电磁波; X—射线的波长约0.01—10nm,用于结构分析的X—射线的波长范围为0.05—0.25nm; X—射线可视为具有一定能量的光量子流。 2.1 连续X—射线谱 连续谱的总强度： 短波限（ SWL)的概念： 根据普朗克定律，若一个电子到达阳极与靶材碰撞时，其能量全部给予一个光子，此光子的波长即为短波限SWL 短波限只与管电压有关，不受其它因素的影响。 连续谱的特点： 1）U（i,z不变)，I ，SWL， m ; 2) i  （U不变), I , SWL和 m 不变； 3）z  （U,i不变), I , SWL和 m 不变. 2.2 标识X—射线谱 1）标识X—射线谱产生条件 对于给定的阳极靶材，管电压达到某一特定值UK 2）产生原因 阳极靶材的内层电子被入射电子激发或电离时，原子就会处于能量较高的激发状态，此时外层电子将向内层跃迁以填补内层电子的空缺，从而释放特征X-射线 2）产生原因（接上页） L层K层跃迁，形成K谱线，L层的不同亚层向K层跃迁，形成K1和K2谱线； 若M层电子向K层空位补充，则辐射波长更短的K 射线； 在K激发态下，L层电子向K层跃迁的几率远大于M层跃迁的几率，所以K谱线的强度约为K